近期国务院联防联控机制印发新冠肺炎疫情居家隔离医学观察指南，居家隔离医学观察期间的核酸检测由社区组织采样人员上门采集，并及时推送核酸检测结果。居家隔离医学观察人员需根据相关防控要求配合工作人员完成核酸检测、抗原自测和结果上报。按目前国内情况以及国外经验，未来抗原检测必将成为最常用居家自检方式。
产业链：如下图1所示，产业链上游为NC膜、N蛋白、S蛋白，重要是热景等生产商，下游为药房
一、上游原料及耗材
1.抗原抗体
诺唯赞：公司是一家围绕酶，抗原， 抗体等功能性蛋白及高分子有机材料进行技术研发和产品开发的生物科技企业，依托于自主建立的关键共性技术平台，先后进入了生物试剂，体外诊断业务领域，并正在进行抗体药物的研发，是国内少数同时具有自主可控上游技术开发能力和终端产品生产能力的研发创新型企业。
近岸蛋白：公司专注于重组蛋白应用解决方案，可实现从蛋白质原料到应用技术开发的全产业链创新支持。
百普赛斯： 公司研发抗体是机体由于抗原的刺激而产生的具有保护作用的蛋白，可用于药物开发，生物学科研实验，诊断试剂开发，疾病治疗。
2.NC膜
泰林生物：公司NC膜产能爬坡后可生产 20000 卷/月，主要的的购买客户，主要集中在新冠抗原检测。
北化股份：公司硝化棉产品部分客户已使用硝化棉用于新冠病毒检测试剂盒用NC膜的生产
优宁维：公司旗下爱必信拥有NC膜产品。
3.包装
泰瑞机器：制造抗原检测盒的注塑机。
海顺新材：抗原检测试剂防潮包装和全血板。
长荣股份：公司开发的新冠抗原检测试剂盒全自动包装生产线已完成技术验收测试。

背景：近期国务院联防联控机制印发新冠肺炎疫情居家隔离医学观察指南，居家隔离医学观察期间的核酸检测由社区组织采样人员上门采集，并及时推送核酸检测结果。居家隔离医学观察人员需根据相关防控要求配合工作人员完成核酸检测、抗原自测和结果上报。按目前国内情况以及国外经验，未来抗原检测必将成为最常用居家自检方式。
产业链：如下图1所示，产业链上游为NC膜、N蛋白、S蛋白，重要是热景等生产商，下游为药房
一、上游原料及耗材
1.抗原抗体
诺唯赞：公司是一家围绕酶，抗原， 抗体等功能性蛋白及高分子有机材料进行技术研发和产品开发的生物科技企业，依托于自主建立的关键共性技术平台，先后进入了生物试剂，体外诊断业务领域，并正在进行抗体药物的研发，是国内少数同时具有自主可控上游技术开发能力和终端产品生产能力的研发创新型企业。
近岸蛋白：公司专注于重组蛋白应用解决方案，可实现从蛋白质原料到应用技术开发的全产业链创新支持。
百普赛斯： 公司研发抗体是机体由于抗原的刺激而产生的具有保护作用的蛋白，可用于药物开发，生物学科研实验，诊断试剂开发，疾病治疗。
2.NC膜
泰林生物：公司NC膜产能爬坡后可生产 20000 卷/月，主要的的购买客户，主要集中在新冠抗原检测。
北化股份：公司硝化棉产品部分客户已使用硝化棉用于新冠病毒检测试剂盒用NC膜的生产
优宁维：公司旗下爱必信拥有NC膜产品。
3.包装
泰瑞机器：制造抗原检测盒的注塑机。
海顺新材：抗原检测试剂防潮包装和全血板。
长荣股份：公司开发的新冠抗原检测试剂盒全自动包装生产线已完成技术验收测试。$万科企业 hk02202$ $建投能源 sz000600$ #美国队员安慰伊朗队员#

【我国首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件】华中科技大学微信公众号：近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。

“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”

据刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，就是通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

目前，全球OPC工具软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。

刘世元是华中科技大学集成电路测量装备研究中心、光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从原华中理工大学校长、著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。

2002年，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电子装备有限公司（SMEE），承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务，为总体组成员、控制学科负责人。通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。

“20年前我参与国家重大专项100nm光刻机的研制，回到学校后，我就一直在从事计算光刻方面的研究工作，坚持做基础的研究，做关键技术的攻关。”2005年，从上海回到学校之后，刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，立足先进光刻与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。2010年初，他明确选定了两个主攻研究方向：面向IC纳米制造的计算光刻与计算测量。十多年来，他和团队在该领域的基础理论与技术创新上做了许多工作，相继获得国内外学术界和产业界同行的重视和认可。

“2013年，我第一次赴日本京都参加第6届国际光谱椭偏学大会，当时还只能当听众。到了2016年，在德国柏林召开的第7届国际光谱椭偏学大会上，我应邀做了大会主题报告，成为该学术会议创办23年来第一位做大会主题报告的华人学者。”刘世元回忆道。如今，刘世元专注集成电路计算光刻的基础研究已有20余年。刘世元团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件算法。

刘世元表示，希望自己的研究成果能够最终转化成产品，为国家和社会发展作贡献。今后，他将带领团队和他所创立的宇微光学软件有限公司加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造厂商市场，力争成为全球芯片产业链中重要的一环。