光刻机问题如果能够解决,我们的芯片产业势必一飞冲天。当然,一台先进的EUV光刻机,里面的零部件多达10万个,其中很大一部分都是多国尖端科技的结晶。要想把这10万个零件凑齐,没那么容易。
所以我国很多科研机构也在寻求其他的解决之道。就像是杭州的西湖大学中,就有一支专门研究冰刻机技术的团队。冰刻机和光刻机的不同就是冰刻机用冰替代了光刻胶,用电子束替代了光源,能够帮助我们绕过很多技术难点,生产出高制程的芯片来。
经过近10年的研发,冰刻机技术已经初现雏形,下一步就是批量实验,然后推向市场。当然,冰刻机和光刻机还是有一定的差距,如今光刻机已经开始向2nm芯片冲刺,而冰刻机生产出来的芯片很可能只有10nm。
所以我国很多科研机构也在寻求其他的解决之道。就像是杭州的西湖大学中,就有一支专门研究冰刻机技术的团队。冰刻机和光刻机的不同就是冰刻机用冰替代了光刻胶,用电子束替代了光源,能够帮助我们绕过很多技术难点,生产出高制程的芯片来。
经过近10年的研发,冰刻机技术已经初现雏形,下一步就是批量实验,然后推向市场。当然,冰刻机和光刻机还是有一定的差距,如今光刻机已经开始向2nm芯片冲刺,而冰刻机生产出来的芯片很可能只有10nm。
现在我们的芯片被“卡脖子”,关键就在于光刻机。光刻机问题如果能够解决,我们的芯片产业势必一飞冲天。当然,一台先进的EUV光刻机,里面的零部件多达10万个,其中很大一部分都是多国尖端科技的结晶。要想把这10万个零件凑齐,没那么容易。
所以我国很多科研机构也在寻求其他的解决之道。就像是杭州的西湖大学中,就有一支专门研究冰刻机技术的团队。冰刻机和光刻机的不同就是冰刻机用冰替代了光刻胶,用电子束替代了光源,能够帮助我们绕过很多技术难点,生产出高制程的芯片来。
经过近10年的研发,冰刻机技术已经初现雏形,下一步就是批量实验,然后推向市场。当然,冰刻机和光刻机还是有一定的差距,如今光刻机已经开始向2nm芯片冲刺,而冰刻机生产出来的芯片很可能只有10nm。
所以我国很多科研机构也在寻求其他的解决之道。就像是杭州的西湖大学中,就有一支专门研究冰刻机技术的团队。冰刻机和光刻机的不同就是冰刻机用冰替代了光刻胶,用电子束替代了光源,能够帮助我们绕过很多技术难点,生产出高制程的芯片来。
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