【观澜亭|郑州红码事件:健康码挪作他用是权力越位】“郑州红码事件”有了新进展。多名储户表示,6月15日11时左右, 他们的健康码已由“红码”转为“绿码”,该信息获得郑州相关部门的进一步确认。

6月13日开始,河南省卫健委及12345政务服务热线接到多个“外地来豫储户被赋红码”的投诉。今年4月起,河南4家村镇银行出现兑付难,取不出钱的储户多次到郑州讨说法。日前,多名储户反映,他们近期没有外出,手机上的河南健康码却被赋予红码,一进郑州就被带走隔离。还有人刚进郑州时是绿码,被发现是讨说法的储户后,很快就变成红码。更有赴河南的储户被当地派出所告知,只要返程,健康码就可以由红变绿。

“郑州红码事件”十分蹊跷,也因涉嫌疫情防控措施被随意用于“社会治理”或“维稳”而引发关注。对于“红码”问题,工作人员表示具体情况并不了解,但经过查证是因大数据信息库出现了一些问题。但从被采访人所述,此事不是技术故障可以自圆其说的。

最能说明问题的是“人未到河南,而红码已来”。河北邓先生近14天一直待在石家庄的家中,并未到过河南。6月11日晚,邓先生在他们自发组建的村镇银行储户沟通群中看到,一些储户因为扫了一个显示地址为“郑州车站西南出口”的场所码,结果健康码突然变红,好奇的邓先生也在家里扫了“沟通群”中的场所码,结果健康码立即变红,但他拿出家人的手机扫描后,却发现家人的健康码仍为绿色。同一所房子,行程码也一模一样,健康码结果不同。邓先生称,自己的健康码虽然已经是红色,但石家庄并未对他实施隔离措施。

扫描变“红码”的人群有一个共同的身份是河南多家“村镇银行的储户”,储户到访郑州登记即被赋“红码”。在储户们自发组建的村镇银行储户沟通群中,先后有来自北京、成都、石家庄、苏州、湖南娄底等全国多地的居民向媒体反映称,也遭遇了与邓先生类似的扫场所码后变红码的诡异事件。

健康码只能“专码专用”,不能“挪作他用”。国家卫健委等三部门2020年12月联合发布的《关于深入推进“互联网+医疗健康”“五个一”服务行动的通知》曾明确规定,加强防疫健康码数据规范使用,强化数据安全管理,切实保护个人隐私。2021年8月,河南省发布健康码赋码规则:确诊病例、密接隔离、特殊工作人员、境外入境以及高风险地区来人等可以赋予红码,而邓先生并不属于这些情况。

储户把钱存到银行,却不能取钱,本身是村镇银行存在问题,储户对此充满焦虑。而有关方面却在此时涉嫌以健康码进行“技术截访”——因为你是河南村镇银行的储户,就是红码;不是河南村镇银行的储户,就是绿码。这难免让人质疑是以“疫情防控”之名,行“处理维权”之实,达到不见储户、不解决问题的目的,这明显违背了以人民为中心的发展理念。

政府职能管理,一般有三种情况:到位、缺位和越位。其中,政府职能“越位”,通俗地讲就是“不该管也去管”,甚至政府部门超越了本部门的职权范围。健康码“挪作他用”,是明显的“权力越位”。

在本次“红码事件”中,河南12345工作人员称,“河南省赋红码的情况,是省级单位进行处理的。”郑州大数据管理局回应称,郑州疫情防控指挥部下属社会防控部,是健康码管理的直接机构,制定赋码的规则,赋码、解码由该部门负责。

本次事件中,一位郑州市卫健系统的内部人士也表示,卫健委在疫情防控中的主要工作是患者救治、流调、核酸检测等业务性工作,赋码不属于卫健委的职能范畴。在这种背景下,有关方面绕过卫健委实施“技术截访”的可能性是存在的。

本次“红码事件”中,“技术故障”基本不可能,只能是在有人授意的情况下才能完成“赋码”。疫情防控措施被随意挪作他用,对公众的“伤害”是巨大的,伤害的不仅仅是当事人,也影响到每一位社会人,这种“越位”是故意的,属于典型的权力滥用。

疫情防控是“国之大者”,是头等大事,“红码事件”的出现是对疫情防控秩序的严重破坏和干扰,更是严重的政府部门失信。政府职能作为政府专有的职责和作用,体现了国家行政管理活动的实质与方向,是社会信用的表率和维护者。在全面推进依法治国的今天,只有政府部门带头有法必依、严格执法,国家才能在法治的轨道上有序发展,社会运转才能井然有序。因此,对“红码事件”,不能轻描淡写,不能因为“红码”转“绿码”就大事化小、小事化了。不管是哪个部门、哪些人授意此事,都必须一查到底,严肃追究相关人的责任。(大众日报)

掌握EUV光刻核心技术 日本憋出个大招:上马2nm[思考]

据报道,日本将与美国合作,最早在 2025 财年启动国内 2 纳米半导体制造基地,加入下一代芯片技术商业化的竞赛。

东京和华盛顿将根据双边芯片技术伙伴关系提供支持。两国私营企业将进行设计和量产研究。

台积电在开发 2 纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。日本通过实现下一代芯片的国内生产来寻求稳定的半导体供应。 

日本和美国企业可以联合成立一家新公司,或者日本公司可以建立一个新的制造中心。日本经济产业省将部分补贴研发成本和资本支出。

联合研究最早将于今年夏天开始,2025财年至2027财年将形成一个研究和量产中心。

全球最大的代工芯片制造商台积电正在日本熊本县建设芯片工厂,但该工厂将只生产从 10nm 到 20nm 范围的不太先进的半导体。

较小的半导体可以实现设备的小型化和改进的性能。2纳米芯片将用于量子计算机、数据中心和尖端智能手机等产品。这些芯片还降低了功耗,减少了碳足迹。

5月初,日美签署了半导体合作基本原则。双方将在即将举行的“二加二”内阁经济官员会议上讨论合作框架的细节。

在 2 纳米研发方面实力雄厚的 IBM 去年开发了原型。同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。

在日本,由国立先进工业科学技术研究所运营的筑波市研究实验室正在开展一项合作,以开发先进半导体生产线的制造技术,包括 2 纳米工艺的生产技术。东京电子和佳能等芯片制造设备制造商与 IBM、英特尔和台积电一起参与了这个集体。

日本拥有信越化学和 Sumco 等强大的芯片材料制造商,而美国则拥有芯片制造设备巨头应用材料公司。芯片制造商和主要供应商之间的这种合作旨在使 2 纳米芯片的量产技术触手可及。

台积电处于下一代芯片量产的前沿。该公司预计今年将在 2 纳米制造设施上破土动工,并有望在今年晚些时候开始大规模制造 3 纳米芯片。 

日本的2nm雄心

在去年五月,就有报道日本政府正在寻求吸引国外优秀的芯片制造商能赴日本建立圆晶工厂,以促进日本在半导体行业的发展。台积电后来也做了决定,虽然是28nm工艺,但也是个好的开始。

媒体在今年一月的报道也指出,台积电将与日本经济产业省成立合资公司,在东京设立先进封测厂。

而根据报导,台积电是要在日本茨城县筑波市新设技术研发中心, 研发中心包括晶圆制程及3D封装。

从过往的报道看来,日本的这个决定也是有其背后的考量的。因为晶体管微缩受限,过去多年在业界就存在一个观点,那就是借用先进封装可以继续推进芯片性能的提升。

而台积电在去年九月更是推出了其3D Fabric平台,将SoIC、CoWoS、InFO等技术家族囊入其中,能串联高频宽存储、异构整合和3D堆叠,以提升系统能耗,并缩小面积。

台积电研发副总余振华也以TSMC的SoIC技术为例,讲述他们这个平台的优势

。他指出,这个技术可将低温多层存储堆叠在逻辑芯片上,帮助延伸摩尔定律。而公司现在已成功将4层、8层与12层低温多层记忆体堆叠在逻辑芯片上,其中12层总厚度更是低于600微米,这让公司在未来可以实现堆叠更多层的可能。

虽然日本已经紧抱台积电,为未来发展先进芯片制造做好了一部分准备。但从日前的新闻看来,日本的野心并不止于此。

最新报道指出,日本经济产业省最快在本周内,会召开与日本半导体产业有关的检讨会,除了会探索瑞萨电子工厂火灾对汽车生产的影响,以及汽车业供应链不稳定的隐忧外,日本政府还计划府着眼朝着数字化发展的当前经济,让半导体供应链体质更加强韧,并从经济安全保障等观点,重新拟定中长期的政策。

日经进一步指出,日本政府将提供资金支持、协助日本企业研发2nm以后的次世代半导体制造技术。为实现这个目标,他们除了继续保持和台积电、Intel等半导体大厂进行大范围的意见交换来进行研发外,他们还将与佳能、东电、SCREEN等本土设备巨头携手,重振日本在先进研发方面的实力。

据报道,这支该获得经产省资金援助的研发团队目标在2020年代中期确立2nm以后的次世代半导体的制造技术,并设立测试产线,研发细微电路的加工、洗净等制造技术。

厚积薄发的底气

正如文章开头所说,虽然日本没有先进的晶圆厂,但他们在先进工艺的上游有很重要的布局。以现在炙手可热的EUV光刻为例,虽然大家都知道全球目前荷兰公司ASML能提供领先的EUV光刻机。

但在半导体行业观察之前的报道中,我们可以看到日本公司在这个领域多个环节的实力。

首先来看缺陷检测设备,如果作为原始电路板的光掩模中存在缺陷,则半导体的缺陷率将相应增加。最近几年需求增长尤其旺盛的是EUV光罩(半导体线路的光掩模版、掩膜版)检验设备,在这个领域,日本的Lasertec Corp.是全球唯一的测试机制造商,Lasertec公司持有全球市场100%的份额。

日本另一个占据100%市场份额的是东京电子的EUV涂覆显影设备,该设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。

1993年东电开始销售FPD生产设备涂布机/显影机,2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。在EUV光刻胶方面,日本的市场份额更是遥遥领先。

据南大光电在今年三月发布的相关报告中披露,如下图所示,全球仅有日本厂商研发出了EUV光刻胶,由此可以看到他们在这方面的实力。而欲了解更多日本在EUV方面的实力,可以参考半导体行业观察之前的文章《不容忽视的日本EUV实力》。

国际主要厂商在半导体光刻胶产品的产业化进度(source:南大光电)在先进工艺研发方面,还有一个重要环节,那就是本节开头谈到的EUV光刻机,这也是日本在先进工艺研发上将佳能纳入其中的原因。虽然这家曾经的光刻机巨头在这个领域已经被ASML抛离,但他们在光刻方面的积累,能某种程度上给日本的先进制造提供指引。

除了上述谈到的一些技术和企业外,如上图所示,日经在昨天的报道中,也披露了日本在半导体制造的多个环节参与其中。

由此可见,对于日本来说,要想在芯片制造上搞出一些浪花,是有其深厚的底气。与此同时,日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超强性能表现加上索喜5nm芯片的新闻表示,日本在先进芯片上也有其实力所在。

在这些企业的配合下,相信日本复兴半导体先进芯片技术乃至建造先进工艺晶圆厂,都有潜在的可能。当然,是否真会这样做晶圆厂,又是另一个层面的讨论。

日重振半导体,政府顾问:须880亿美金

台积电赴日建厂并获得日本政府的补助,被视为日本提高自身芯片制造能力的关键,据外媒报导,日本政府半导体小组的高级顾问认为,日本做得还不够多,如果想重振半导体产业,明年就应该提供减税优惠,并订下未来十年鼓励企业投资多达10兆日圆(约880亿美元)。

东哲郎认为,日本的半导体产业已低迷数十年,如今有增加补助经费的动作,应是扭转颓势的开端,“没有政府的初期投资,私营企业不会愿意投资。”

东哲郎建议,在未来的10年内,日本政府及私营部门应投资半导体产业10兆日圆。目前,增加对半导体产业的补助,在日本政界内已形成共识,据报导,日本首相岸田文雄也曾称,将为国内半导体生产提供逾1.4兆日圆的投资。

报导提到,因为芯片短缺,各国都在扩大自身的芯片制造能力,并增加补助经费,美国已投入520亿美元(约新台币1.44兆元),并成功吸引到台积电与三星赴美设厂,而中国也有相关的动作。

报导提到,日本过去为人诟病的一点是,对半导体产业的投资不足,并使得市场份额被抢走,如今日本政府也重新重视半导体产业,并承诺将重振半导体产业列为国家项目,目标是到2030年将国内半导体公司的年收入提高约3倍至13兆日圆(约1100字美元)。

东哲郎认为,在下一步,日本政府应在常规预算中,为芯片制造编列额外资金,而非使用一次性的预算进行帮忙。他认为,人们需要看到对这个项目的长期承诺,否则不会把政府当一回事,“若没有政府的初期投资,私营企业不会愿意投资。”

至于日本政府对半导体产业的减税优惠,应涵盖哪些项目,据东哲郎认为,包括:对芯片制造业免征企业所得税的研发、削减用水及公用事业成本,这都是值得讨论的方向。#半导体#

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