【光刻胶相关企业】
目前低端PCB光刻胶国产替代最快，高端半导体光刻胶处于方兴未艾的阶段：
上海新阳KrF厚膜、ArF干法光刻胶研发到达中试阶段；
晶瑞股份完成KrF（248nm深紫外）光刻胶中试；
南大光电研制的ArF（193nm）光刻胶样品处于客户测试阶段；
彤程新材收购北京科华、北旭后挺进国内光刻胶技术的第一方阵，产品线覆盖KrF线、I线和G线，ArF和EUV+光刻胶处于研发中，当前彤程新材在上海投建1.1万吨平板显示和半导体用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，预计2022年具备一定生产能力，产能释放后有望进一步扩大光刻胶的国产化。
目前低端PCB光刻胶国产替代最快，高端半导体光刻胶处于方兴未艾的阶段：
上海新阳KrF厚膜、ArF干法光刻胶研发到达中试阶段；
晶瑞股份完成KrF（248nm深紫外）光刻胶中试；
南大光电研制的ArF（193nm）光刻胶样品处于客户测试阶段；
彤程新材收购北京科华、北旭后挺进国内光刻胶技术的第一方阵，产品线覆盖KrF线、I线和G线，ArF和EUV+光刻胶处于研发中，当前彤程新材在上海投建1.1万吨平板显示和半导体用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，预计2022年具备一定生产能力，产能释放后有望进一步扩大光刻胶的国产化。
【光刻胶相关企业】
目前低端PCB光刻胶国产替代最快，高端半导体光刻胶处于方兴未艾的阶段：
上海新阳KrF厚膜、ArF干法光刻胶研发到达中试阶段；
晶瑞股份完成KrF（248nm深紫外）光刻胶中试；
南大光电研制的ArF（193nm）光刻胶样品处于客户测试阶段；
彤程新材收购北京科华、北旭后挺进国内光刻胶技术的第一方阵，产品线覆盖KrF线、I线和G线，ArF和EUV+光刻胶处于研发中，当前彤程新材在上海投建1.1万吨平板显示和半导体用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，预计2022年具备一定生产能力，产能释放后有望进一步扩大光刻胶的国产化。
目前低端PCB光刻胶国产替代最快，高端半导体光刻胶处于方兴未艾的阶段：
上海新阳KrF厚膜、ArF干法光刻胶研发到达中试阶段；
晶瑞股份完成KrF（248nm深紫外）光刻胶中试；
南大光电研制的ArF（193nm）光刻胶样品处于客户测试阶段；
彤程新材收购北京科华、北旭后挺进国内光刻胶技术的第一方阵，产品线覆盖KrF线、I线和G线，ArF和EUV+光刻胶处于研发中，当前彤程新材在上海投建1.1万吨平板显示和半导体用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，预计2022年具备一定生产能力，产能释放后有望进一步扩大光刻胶的国产化。
【格科半导体成功引入 ASML 先进 ArF 光刻机】
3 月 27 日消息，格科微电子微信公众号发布消息称，目前，格科微有限公司“12 英寸 CIS 集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，并于 2022 年 2 月 16 日开始主设备的搬入安装。
在 3 月 24 日，格科半导体再次迎来了建厂重要标志性时刻，整套生产线中的最关键设备 —— ASML 先进 ArF 光刻机成功搬入。
2021 年，该公司入选“中国半导体企业 100 强”榜单。
3 月 27 日消息，格科微电子微信公众号发布消息称，目前，格科微有限公司“12 英寸 CIS 集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，并于 2022 年 2 月 16 日开始主设备的搬入安装。
在 3 月 24 日，格科半导体再次迎来了建厂重要标志性时刻，整套生产线中的最关键设备 —— ASML 先进 ArF 光刻机成功搬入。
2021 年，该公司入选“中国半导体企业 100 强”榜单。
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