内蒙古正镶白旗人民法院：畅通涉企案件绿色通道
为快速办理涉企案件，减轻企业诉累，持续优化法治化营商环境，锡林郭勒盟正镶白旗人民法院设立涉企案件绿色通道，涉企案件在办理过程中实行“五优先”，全力缩短涉企案件立审执时间，优化业务流程，提升审执质效。
优先立案。诉讼服务中心设置涉企案件立案窗口，由专人负责涉企案件的立案工作，对符合法定受理条件的案件实行当日立案、当日移交业务庭，对于提交材料不符合立案规定的，一次性告知补正。立案工作人员对涉企案件材料张贴“绿色标签”，案件进入快速通道。
优先送达。对于有绿色标签的案件，送达人员优先适用电子送达方式，全力缩短送达时间。
优先调解。诉前调解团队接收到涉企绿色标签案件时，第一时间引导涉企案件进行诉前调解，组织人民调解员进行调解，快速化解纠纷，为企业降低诉讼成本。
优先审理。诉前调解未果的涉企案件进入审理阶段，优先适用法院速裁。对于不适宜调解或速裁的疑难复杂案件，及时转入审判庭室精审细判。通过不同解决方式之间的无缝衔接，使涉企纠纷以合适的方式得到化解。同时严格审限管理，提升案件审理质效。
优先执行。涉企案件进入执行程序后，优先进行执行，审慎采取查封、扣押、冻结等执行措施，及时启动财产处置程序，执行案款到账后，三十日内完成案款发放工作。通过对涉企案件全流程精细化管理，提高执行效率、降低企业执行期间的成本。
正镶白旗人民法院通过对“立、审、执”各阶段节点进行细化、量化，实现涉企案件“快立、快送、快调、快审、快执”，不断提升办案质效、助力企业降成本、抢时间、抓机遇，切实增强企业的诉讼体验感和法治获得感。（侯云峰）
为快速办理涉企案件，减轻企业诉累，持续优化法治化营商环境，锡林郭勒盟正镶白旗人民法院设立涉企案件绿色通道，涉企案件在办理过程中实行“五优先”，全力缩短涉企案件立审执时间，优化业务流程，提升审执质效。
优先立案。诉讼服务中心设置涉企案件立案窗口，由专人负责涉企案件的立案工作，对符合法定受理条件的案件实行当日立案、当日移交业务庭，对于提交材料不符合立案规定的，一次性告知补正。立案工作人员对涉企案件材料张贴“绿色标签”，案件进入快速通道。
优先送达。对于有绿色标签的案件，送达人员优先适用电子送达方式，全力缩短送达时间。
优先调解。诉前调解团队接收到涉企绿色标签案件时，第一时间引导涉企案件进行诉前调解，组织人民调解员进行调解，快速化解纠纷，为企业降低诉讼成本。
优先审理。诉前调解未果的涉企案件进入审理阶段，优先适用法院速裁。对于不适宜调解或速裁的疑难复杂案件，及时转入审判庭室精审细判。通过不同解决方式之间的无缝衔接，使涉企纠纷以合适的方式得到化解。同时严格审限管理，提升案件审理质效。
优先执行。涉企案件进入执行程序后，优先进行执行，审慎采取查封、扣押、冻结等执行措施，及时启动财产处置程序，执行案款到账后，三十日内完成案款发放工作。通过对涉企案件全流程精细化管理，提高执行效率、降低企业执行期间的成本。
正镶白旗人民法院通过对“立、审、执”各阶段节点进行细化、量化，实现涉企案件“快立、快送、快调、快审、快执”，不断提升办案质效、助力企业降成本、抢时间、抓机遇，切实增强企业的诉讼体验感和法治获得感。（侯云峰）
半导体的检验方法
缺陷扫描检查
在开始生产之前，裸晶圆在晶圆制造商处要检验合格合格，并在半导体工厂接收后再次要检验合格。只有最无缺陷的晶圆才用于生产，它们的生产前缺陷图允许制造商跟踪可能导致芯片功能不佳的区域。裸晶片或非图案化晶片也在经受被动或主动处理环境之前和之后被测量，以确定来自给定处理工具的粒子贡献的基线。
100纳米以下的检测工具目前被用于制造环境中，以保证进入晶圆的质量，并用于大批量制造的工艺工具监控和鉴定。这些工具采用与设计用于大规模缺陷检测的工具相同的基本操作原理，但使用DUV照明增强光学系统。一些制造商声称复杂的图像分析算法可以达到20纳米以下的灵敏度。正如所料，在这些应用中使用的系统中，晶片台和光学部件的运动控制需要高度的精度和准确度。
由于需要检测工具来检测和量化越来越小的颗粒，由于散射光信号的信噪比降低，表面微粗糙度(雾度)等因素的影响开始影响小颗粒的可检测性。非图案化晶片的亚100纳米检测由于尺度问题而变得复杂，信噪比是确定检测系统对晶片表面颗粒和其他缺陷的检测极限的关键参数。来自环境湿度等来源的表面化学污染也会导致信噪比下降。为了帮助抵消这种影响，用于亚100纳米缺陷检测的检测工具采用高度复杂的光学空间滤波、散射信号的偏振分析和专门的信号处理算法来检测存在表面雾度的缺陷。
形貌检查
测量裸晶片形貌有许多原因。例如，晶片可能弯曲，或者支撑晶片的卡盘(静电或气动)可能在晶片的接触点产生凹痕。这种变形会影响纳米尺度的图案成像。已经开发出非常精确的干涉测量工具来测量加工前晶片形状的这种变化。
用于测量裸晶圆表面形貌的基本设计类似于图3所示的斐索干涉仪。这种干涉测量技术将晶片与非常高质量和平整度的参考楔(或参考平面)进行比较。楔角确保来自平面的第一表面的反射不会对干涉信号产生影响。从第二表面反射的光用作参考，同时一部分光穿过平板以询问晶片(测试平板)。从晶片和测试平台反射的光被分束器导向成像系统。分析干涉图案，并使用软件将测量结果拼接在一起，以形成具有纳米尺度分辨率的完整晶片图。实际上，测量裸晶片形貌的干涉测量工具极其复杂，并且利用运动解决方案、大型光学器件和照明源来帮助扩展可制造性设计的边界。
亚100纳米特征的DUV晶圆检测
亚100纳米图案化晶片的缺陷检测比非图案化晶片检测面临更大的挑战。用于图案化晶片应用的基于DUV的光学检测使用与旧的可见光和紫外光检测系统相同的图像比较原理。然而，基于DUV的方法在光学、运动控制和图像分析算法方面需要更高的复杂程度。
DUV检测工具已成为图案化晶圆检测的行业标准，其特征尺寸可达65纳米；高达每小时几个晶片的检查速率使得这些系统适合于生产应用。DUV检测工具显示出对缺陷检测的高灵敏度，例如浅沟槽隔离空隙、接触蚀刻缺陷和亚100纳米几何形状的光刻胶微桥接。使用宽带DUV/紫外/可见照明，现代明场图案化晶圆检测系统目前可实现对动态随机存取存储器和闪存器件上所有层缺陷检测所需的灵敏度，最低可达55纳米特征尺寸。
虽然众所周知的特性加上相对较低的成本和较高的吞吐量使得DUV光学检测系统的持续使用具有吸引力，但一些制造商报告称，DUV检测系统不具备65纳米以下几何形状所需的精度和灵敏度。一项研究声称，DUV暗场光学图案检测系统的极限缺陷灵敏度在存储技术(例如静态随机存取存储器)中约为75纳米，在逻辑区域中更大。DUV明场系统的极限灵敏度稍高，静态随机存取存储器约为50纳米，暗场系统的极限灵敏度则更高。此外，使用DUV激光照射图案化晶片上非常小且因此易碎的结构产生了一些不寻常的问题，例如表面材料的激光烧蚀。这些问题的解决方案可能在于将宽带等离子体照明用于光学检查系统(现有的DUV系统采用266纳米波长，并且正在转向193纳米照明)或者使用能够生产的电子束检查工具。最近推出的基于等离子体产生的宽带照明的检测工具可用于生产环境。声称这些系统的分辨率低于10纳米，因为在这种较小的尺度下，较短的波长提供了更精确的检查。
电子束晶圆检测
电子束成像也用于缺陷检查，尤其是在光学成像效率较低的较小几何形状上。电子束检查可以提供比光学检查系统分辨率动态范围大得多的材料对比度。然而，电子束应用受到测量速度慢的限制，这使得它主要用于R&D环境和新技术鉴定的工艺开发。新的电子束工具可用于10纳米及以下节点的缺陷检测应用，多电子束工具正在开发中，具有多达100个柱或测量通道。
标线检查
掩模版是用精细特征图案化的透射或反射投影掩模，通常比晶片上期望的图案尺寸大4-5倍。它们与光学照明系统一起使用，作为晶片图案化过程的一部分，光学照明系统对图案化的光进行成像和去放大，以选择性地显影光致抗蚀剂。
可以说，掩模版检查远比无图案或有图案的晶片检查更重要。这是因为，虽然裸晶片或图案化晶片上的单个缺陷有可能“杀死”一个器件，但是掩模版上的单个未检测到的缺陷会破坏成千上万个器件，因为缺陷会在使用该掩模版处理的每个晶片上复制。对于EUV来说，这个问题由于图案的更精细的分辨率、薄保护膜的存在以及分划板的反射设计而变得更加复杂。
除了通常使用透射光而不是反射光来检查掩模版之外，掩模版检查系统的工作原理与晶片检查工具相同，并且具有相似的物理要求。透射光用于定位紫外线不透明污渍和其他透射缺陷。掩模版检查工具根据缺陷容差和/或特征尺寸，采用高分辨率成像光学器件和可见光或紫外光照明，以发现掩模版坯料或图案化掩模版上的缺陷。在掩模版制造过程中和整个掩模版使用过程中，例行检查。标线检查工具采用了类似于晶片检查工具中使用的复杂图像分析软件和运动控制系统。通过使用紫外线照明，传统光学器件在标线检查系统中的使用已经扩展到90纳米的特征尺寸。使用电子束可以在较小的特征尺寸下进行掩模版检查，因为与图案化晶片检查相比，可以容许较低的生产量。与晶片检测一样，亚100纳米应用中使用的掩模版检测工具(空白和图案化掩模版检测)采用DUV照明，通常使用266纳米或193纳米的单一波长。#哪些事是你跳槽后才知道的#
缺陷扫描检查
在开始生产之前，裸晶圆在晶圆制造商处要检验合格合格，并在半导体工厂接收后再次要检验合格。只有最无缺陷的晶圆才用于生产，它们的生产前缺陷图允许制造商跟踪可能导致芯片功能不佳的区域。裸晶片或非图案化晶片也在经受被动或主动处理环境之前和之后被测量，以确定来自给定处理工具的粒子贡献的基线。
100纳米以下的检测工具目前被用于制造环境中，以保证进入晶圆的质量，并用于大批量制造的工艺工具监控和鉴定。这些工具采用与设计用于大规模缺陷检测的工具相同的基本操作原理，但使用DUV照明增强光学系统。一些制造商声称复杂的图像分析算法可以达到20纳米以下的灵敏度。正如所料，在这些应用中使用的系统中，晶片台和光学部件的运动控制需要高度的精度和准确度。
由于需要检测工具来检测和量化越来越小的颗粒，由于散射光信号的信噪比降低，表面微粗糙度(雾度)等因素的影响开始影响小颗粒的可检测性。非图案化晶片的亚100纳米检测由于尺度问题而变得复杂，信噪比是确定检测系统对晶片表面颗粒和其他缺陷的检测极限的关键参数。来自环境湿度等来源的表面化学污染也会导致信噪比下降。为了帮助抵消这种影响，用于亚100纳米缺陷检测的检测工具采用高度复杂的光学空间滤波、散射信号的偏振分析和专门的信号处理算法来检测存在表面雾度的缺陷。
形貌检查
测量裸晶片形貌有许多原因。例如，晶片可能弯曲，或者支撑晶片的卡盘(静电或气动)可能在晶片的接触点产生凹痕。这种变形会影响纳米尺度的图案成像。已经开发出非常精确的干涉测量工具来测量加工前晶片形状的这种变化。
用于测量裸晶圆表面形貌的基本设计类似于图3所示的斐索干涉仪。这种干涉测量技术将晶片与非常高质量和平整度的参考楔(或参考平面)进行比较。楔角确保来自平面的第一表面的反射不会对干涉信号产生影响。从第二表面反射的光用作参考，同时一部分光穿过平板以询问晶片(测试平板)。从晶片和测试平台反射的光被分束器导向成像系统。分析干涉图案，并使用软件将测量结果拼接在一起，以形成具有纳米尺度分辨率的完整晶片图。实际上，测量裸晶片形貌的干涉测量工具极其复杂，并且利用运动解决方案、大型光学器件和照明源来帮助扩展可制造性设计的边界。
亚100纳米特征的DUV晶圆检测
亚100纳米图案化晶片的缺陷检测比非图案化晶片检测面临更大的挑战。用于图案化晶片应用的基于DUV的光学检测使用与旧的可见光和紫外光检测系统相同的图像比较原理。然而，基于DUV的方法在光学、运动控制和图像分析算法方面需要更高的复杂程度。
DUV检测工具已成为图案化晶圆检测的行业标准，其特征尺寸可达65纳米；高达每小时几个晶片的检查速率使得这些系统适合于生产应用。DUV检测工具显示出对缺陷检测的高灵敏度，例如浅沟槽隔离空隙、接触蚀刻缺陷和亚100纳米几何形状的光刻胶微桥接。使用宽带DUV/紫外/可见照明，现代明场图案化晶圆检测系统目前可实现对动态随机存取存储器和闪存器件上所有层缺陷检测所需的灵敏度，最低可达55纳米特征尺寸。
虽然众所周知的特性加上相对较低的成本和较高的吞吐量使得DUV光学检测系统的持续使用具有吸引力，但一些制造商报告称，DUV检测系统不具备65纳米以下几何形状所需的精度和灵敏度。一项研究声称，DUV暗场光学图案检测系统的极限缺陷灵敏度在存储技术(例如静态随机存取存储器)中约为75纳米，在逻辑区域中更大。DUV明场系统的极限灵敏度稍高，静态随机存取存储器约为50纳米，暗场系统的极限灵敏度则更高。此外，使用DUV激光照射图案化晶片上非常小且因此易碎的结构产生了一些不寻常的问题，例如表面材料的激光烧蚀。这些问题的解决方案可能在于将宽带等离子体照明用于光学检查系统(现有的DUV系统采用266纳米波长，并且正在转向193纳米照明)或者使用能够生产的电子束检查工具。最近推出的基于等离子体产生的宽带照明的检测工具可用于生产环境。声称这些系统的分辨率低于10纳米，因为在这种较小的尺度下，较短的波长提供了更精确的检查。
电子束晶圆检测
电子束成像也用于缺陷检查，尤其是在光学成像效率较低的较小几何形状上。电子束检查可以提供比光学检查系统分辨率动态范围大得多的材料对比度。然而，电子束应用受到测量速度慢的限制，这使得它主要用于R&D环境和新技术鉴定的工艺开发。新的电子束工具可用于10纳米及以下节点的缺陷检测应用，多电子束工具正在开发中，具有多达100个柱或测量通道。
标线检查
掩模版是用精细特征图案化的透射或反射投影掩模，通常比晶片上期望的图案尺寸大4-5倍。它们与光学照明系统一起使用，作为晶片图案化过程的一部分，光学照明系统对图案化的光进行成像和去放大，以选择性地显影光致抗蚀剂。
可以说，掩模版检查远比无图案或有图案的晶片检查更重要。这是因为，虽然裸晶片或图案化晶片上的单个缺陷有可能“杀死”一个器件，但是掩模版上的单个未检测到的缺陷会破坏成千上万个器件，因为缺陷会在使用该掩模版处理的每个晶片上复制。对于EUV来说，这个问题由于图案的更精细的分辨率、薄保护膜的存在以及分划板的反射设计而变得更加复杂。
除了通常使用透射光而不是反射光来检查掩模版之外，掩模版检查系统的工作原理与晶片检查工具相同，并且具有相似的物理要求。透射光用于定位紫外线不透明污渍和其他透射缺陷。掩模版检查工具根据缺陷容差和/或特征尺寸，采用高分辨率成像光学器件和可见光或紫外光照明，以发现掩模版坯料或图案化掩模版上的缺陷。在掩模版制造过程中和整个掩模版使用过程中，例行检查。标线检查工具采用了类似于晶片检查工具中使用的复杂图像分析软件和运动控制系统。通过使用紫外线照明，传统光学器件在标线检查系统中的使用已经扩展到90纳米的特征尺寸。使用电子束可以在较小的特征尺寸下进行掩模版检查，因为与图案化晶片检查相比，可以容许较低的生产量。与晶片检测一样，亚100纳米应用中使用的掩模版检测工具(空白和图案化掩模版检测)采用DUV照明，通常使用266纳米或193纳米的单一波长。#哪些事是你跳槽后才知道的#
#宣汉我的家# 【宣汉县纪委监委：四个“常态化”亮剑“四心”作风教育整顿】“请同志们认真自查自纠，每人至少列出3条关于‘四心’作风问题清单并于今天下班之前报送至机关党委。”这是今年宣汉县纪委监委开展的担当作为不尽心、争创一流缺雄心、服务群众不贴心、遵规守纪缺戒心“四心”作风问题教育整顿的一个缩影。
自“四心”作风问题教育整顿开展以来，宣汉县纪委监委针对“四心”作风问题，坚持刀刃向内，主动亮剑，着力对纪检系统的干部“四心”作风问题开展常态化暗访督查，不断增强纪检监察干部廉洁自律意识，筑牢拒腐防变根基。
据了解，为进一步促进“四心”作风问题教育整顿提升监督质效，该县纪委监委坚持四个“常态化”。常态化风险防控促“尽心”。按照“全面排查、全程防控、全员覆盖”原则，采取岗位自查、领导点查、组织核查的方式，分领导班子，中层干部、派驻（出）纪检监察组和个人四个层面，从担当作为、争创一流、服务群众、遵规守纪等方面对存在的问题进行常态化排查。目前排查问题个数180余个，制定整改措施200余条。常态化廉政谈话增“雄心”。坚持对党员干部在工作中存在的“小毛病”“小问题”果断采取直刺“痛点”的方式进行廉政提醒，做到预防在先，教育在先。开展作风教育整顿以来，先后对遴选的6名干部、转任及提拔的3名科级干部进行了廉政谈话，进一步筑牢思想“堤坝”，切实增强担当作为、勇争一流意识。常态化服务群众真“贴心”。扎实开展“千名纪检监察干部进万家”和“我为群众办实事”活动，组织全县纪检干部沉下身子和群众结穷亲、解难事，展现纪检监察干部为民服务的良好形象。截至目前，全县累计180余名纪检监察干部共走访村（社区）300余个，走访群众3606户，解决群众诉求450余个。常态化警示教育守“戒心”。坚持用身边事教育身边人，通过典型案例通报、组织观看《正风肃纪﹒刻不容缓》警示教育片等方式，利用反面典型“活教材”，以案明纪，以案释法，引导干部知敬畏、存戒惧、守底线。
据悉，宣汉县纪委还采用“互联网+监督”的模式将“清廉乡村”“智慧监督工作平台”有效结合，通过点对点、点对面的方式下放“四心”作风问题教育整顿工作任务清单，细化量化各项监督指标，真正确保工作落地见效。针对“四心”问题特别是上班纪律、廉洁过节情况开展了专项监督检查2次，发现问题12个，相关问题线索已启动问责程序。
“开展‘四心’作风教育整顿，是主动适应全面从严治党新常态的具体体现，作为党的政治机关，必须一以贯之、坚定不移推进作风教育整顿，坚持打铁必须自身硬，攻坚克难，砥砺前行，展现新形象、创造新业绩，着力锻造忠诚干净担当的执纪铁军。”
县纪委监委主要负责人如是说。
（马济）
自“四心”作风问题教育整顿开展以来，宣汉县纪委监委针对“四心”作风问题，坚持刀刃向内，主动亮剑，着力对纪检系统的干部“四心”作风问题开展常态化暗访督查，不断增强纪检监察干部廉洁自律意识，筑牢拒腐防变根基。
据了解，为进一步促进“四心”作风问题教育整顿提升监督质效，该县纪委监委坚持四个“常态化”。常态化风险防控促“尽心”。按照“全面排查、全程防控、全员覆盖”原则，采取岗位自查、领导点查、组织核查的方式，分领导班子，中层干部、派驻（出）纪检监察组和个人四个层面，从担当作为、争创一流、服务群众、遵规守纪等方面对存在的问题进行常态化排查。目前排查问题个数180余个，制定整改措施200余条。常态化廉政谈话增“雄心”。坚持对党员干部在工作中存在的“小毛病”“小问题”果断采取直刺“痛点”的方式进行廉政提醒，做到预防在先，教育在先。开展作风教育整顿以来，先后对遴选的6名干部、转任及提拔的3名科级干部进行了廉政谈话，进一步筑牢思想“堤坝”，切实增强担当作为、勇争一流意识。常态化服务群众真“贴心”。扎实开展“千名纪检监察干部进万家”和“我为群众办实事”活动，组织全县纪检干部沉下身子和群众结穷亲、解难事，展现纪检监察干部为民服务的良好形象。截至目前，全县累计180余名纪检监察干部共走访村（社区）300余个，走访群众3606户，解决群众诉求450余个。常态化警示教育守“戒心”。坚持用身边事教育身边人，通过典型案例通报、组织观看《正风肃纪﹒刻不容缓》警示教育片等方式，利用反面典型“活教材”，以案明纪，以案释法，引导干部知敬畏、存戒惧、守底线。
据悉，宣汉县纪委还采用“互联网+监督”的模式将“清廉乡村”“智慧监督工作平台”有效结合，通过点对点、点对面的方式下放“四心”作风问题教育整顿工作任务清单，细化量化各项监督指标，真正确保工作落地见效。针对“四心”问题特别是上班纪律、廉洁过节情况开展了专项监督检查2次，发现问题12个，相关问题线索已启动问责程序。
“开展‘四心’作风教育整顿，是主动适应全面从严治党新常态的具体体现，作为党的政治机关，必须一以贯之、坚定不移推进作风教育整顿，坚持打铁必须自身硬，攻坚克难，砥砺前行，展现新形象、创造新业绩，着力锻造忠诚干净担当的执纪铁军。”
县纪委监委主要负责人如是说。
（马济）
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