其实盖德·穆勒已经远离大众视线很久了，但为什么会感觉他一直在频繁出现呢，主要是因为近年来他所保持的记录一项一项被人打破，单赛季德甲40球记录，七次五大联赛金靴记录，自然年85球记录，世界杯14球记录，德国国家队68球记录，均在保持了近四五十年后被莱万，梅西，罗纳尔多，克洛泽这些后生超越，超越这些记录的人有多强，你就知道穆勒有多神！别忘了，德甲历史最佳射手到现在还是他（365球），这几年还很难被破。一路走好，千古不朽！[蜡烛]
#半导体材料##靶材# 行业洞察丨溅射靶材迎市场爆发窗口，国产替代至少10倍空间
【江丰电子、隆华科技、阿石创、有研新材、先导、映日、新疆众和、火炬安泰】
2019 年，韩国与日本之间爆发过一次争端，日本方面宣布对韩国禁运，包括光刻胶在内的三种重要化学品要出口审查，韩国随即启动国产化项目，然而2年后依然不能摆脱对日本的依赖。2021年8月初，某券商分析师与中芯国际光刻胶负责人的一番争执，不仅让整个半导体板块出现波动，也让光刻胶又一次站在了风口浪尖。
作为半导体核心材料之一，光刻胶和光刻机相互配套，共同决定着芯片制造的工艺水平，因此一直以来都饱受关注。不过在半导体核心材料领域，除了光刻胶之外，其他的材料在产业中也发挥着重要作用，包括硅片、光掩膜、电子特气、抛光液，以及我们本期的主角——靶材。
靶材：薄膜制备的主要材料
随着信息技术的飞速发展，要求集成电路的集成度越来越高，电路中单元器件尺寸不断缩小。每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中，介质层、导体层甚至保护层都要用到不同特性的薄膜材料。而溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。
靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。（1）靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜；（2）背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，涉及焊接工艺。由于高纯度金属强度较低，而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程。机台内部为高电压、高真空环境，因此，超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合，背板需要具备良好的导电、导热性能。
如果从微观层面去观察，细致到原子层级的粒子交换，将高纯金属板、柱转换成厚度为纳米/微米级别的功能性薄膜材料，溅射镀膜工艺的过程可以说美轮美奂。
应用：面板、芯片、光伏
靶材的产业链基本呈金字塔分布，分为金属提纯、靶材制造、溅射镀膜、终端应用四个环节，其中溅射镀膜是整个产业链中技术要求最高的环节，终端应用环节是整个产业链中规模最大的领域。
在终端应用领域，高纯溅射靶材集中应用于平板显示、信息存储、太阳能电池、芯片四个场景，合计占比达94%。
（1）芯片靶材是制造集成电路的关键原材料，也是技术要求最高的靶材。从技术要求来看，半导体靶材要求超高纯度金属、高精密尺寸、高集成度等，往往选取高纯铜、高纯铝、高纯钛、高纯钽、铜锰合金等，集成电路芯片通常要求铝靶纯度在5N5以上。
（2）平板显示靶材的原材料有高纯度铝、铜、钼等，还有掺锡氧化铟（ITO），主要用于高清电视、笔记本电脑等。平板显示靶材技术要求高，它要求材料高纯度、面积大、均匀性好。平板显示靶材通常要求铝靶纯度在5N以上。
（3）信息存储靶材具备高存储密度、高传输速度等特性。
（4）工具改性靶材的原材料有纯金属铬、铬铝合金等，主要用工具、模具等表面强化，性能要求较高、使用寿命延长。
未来：10倍替代空间
靶材应用性较强，溅射靶材行业在全球范围内呈现明显的区域集聚特征，国外知名靶材公司在靶材研发生产方面已有几十年的积淀，在靶材市场占据绝对的优势。根据智研咨询数据，目前全球溅射靶材市场主要有四家企业：JX 日矿金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯，合计垄断了全球80%的市场份额。尤其是溅射靶材中最高端的晶圆制造靶材市场基本被这四家公司所垄断，合计约占全球晶圆制造靶材市场份额的90%，其中JX 日矿金属规模最大，占全球晶圆制造靶材市场份额比例为30%。从靶材种类角度看，JX 日矿金属是铜靶的主要供应商；攀时与世泰科为钼靶的主要供应商，住友化学，爱发科为铝靶的主要供应商；三井、JX 日矿金属和优美科则是ITO 靶材主要供应商。
作为半导体、显示面板等的关键核心材料，2019 年全球靶材市场约在160 亿美元左右，国内总需求占比超 30%。根据咨询公司行业报告测算，本土靶材厂商约占国内市场 30%的份额，对应90 亿元的营收总额，但是国内溅射靶材主要应用于中低端产品，而高端靶材产品则从美日韩进口，江丰电子、隆华科技、阿石创、有研新材、先导、映日、新疆众和、火炬安泰等国内头部企业靶材合计营收在30-40 亿元范围，占国内总需求10%左右。
伴随全球分工及产业链转移，本土企业正处在加速替代过程中。若我国靶材市场完全实现自给自足，且订单逐步向第一梯队企业聚集，则头部企业国产替代空间可达十倍。根据以上测算，叠加靶材国产替代进程不断加速的趋势，溅射靶材市场至少有十倍的进口替代空间。 https://t.cn/zQDk7Ky
【江丰电子、隆华科技、阿石创、有研新材、先导、映日、新疆众和、火炬安泰】
2019 年，韩国与日本之间爆发过一次争端，日本方面宣布对韩国禁运，包括光刻胶在内的三种重要化学品要出口审查，韩国随即启动国产化项目，然而2年后依然不能摆脱对日本的依赖。2021年8月初，某券商分析师与中芯国际光刻胶负责人的一番争执，不仅让整个半导体板块出现波动，也让光刻胶又一次站在了风口浪尖。
作为半导体核心材料之一，光刻胶和光刻机相互配套，共同决定着芯片制造的工艺水平，因此一直以来都饱受关注。不过在半导体核心材料领域，除了光刻胶之外，其他的材料在产业中也发挥着重要作用，包括硅片、光掩膜、电子特气、抛光液，以及我们本期的主角——靶材。
靶材：薄膜制备的主要材料
随着信息技术的飞速发展，要求集成电路的集成度越来越高，电路中单元器件尺寸不断缩小。每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中，介质层、导体层甚至保护层都要用到不同特性的薄膜材料。而溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。
靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。（1）靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜；（2）背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，涉及焊接工艺。由于高纯度金属强度较低，而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程。机台内部为高电压、高真空环境，因此，超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合，背板需要具备良好的导电、导热性能。
如果从微观层面去观察，细致到原子层级的粒子交换，将高纯金属板、柱转换成厚度为纳米/微米级别的功能性薄膜材料，溅射镀膜工艺的过程可以说美轮美奂。
应用：面板、芯片、光伏
靶材的产业链基本呈金字塔分布，分为金属提纯、靶材制造、溅射镀膜、终端应用四个环节，其中溅射镀膜是整个产业链中技术要求最高的环节，终端应用环节是整个产业链中规模最大的领域。
在终端应用领域，高纯溅射靶材集中应用于平板显示、信息存储、太阳能电池、芯片四个场景，合计占比达94%。
（1）芯片靶材是制造集成电路的关键原材料，也是技术要求最高的靶材。从技术要求来看，半导体靶材要求超高纯度金属、高精密尺寸、高集成度等，往往选取高纯铜、高纯铝、高纯钛、高纯钽、铜锰合金等，集成电路芯片通常要求铝靶纯度在5N5以上。
（2）平板显示靶材的原材料有高纯度铝、铜、钼等，还有掺锡氧化铟（ITO），主要用于高清电视、笔记本电脑等。平板显示靶材技术要求高，它要求材料高纯度、面积大、均匀性好。平板显示靶材通常要求铝靶纯度在5N以上。
（3）信息存储靶材具备高存储密度、高传输速度等特性。
（4）工具改性靶材的原材料有纯金属铬、铬铝合金等，主要用工具、模具等表面强化，性能要求较高、使用寿命延长。
未来：10倍替代空间
靶材应用性较强，溅射靶材行业在全球范围内呈现明显的区域集聚特征，国外知名靶材公司在靶材研发生产方面已有几十年的积淀，在靶材市场占据绝对的优势。根据智研咨询数据，目前全球溅射靶材市场主要有四家企业：JX 日矿金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯，合计垄断了全球80%的市场份额。尤其是溅射靶材中最高端的晶圆制造靶材市场基本被这四家公司所垄断，合计约占全球晶圆制造靶材市场份额的90%，其中JX 日矿金属规模最大，占全球晶圆制造靶材市场份额比例为30%。从靶材种类角度看，JX 日矿金属是铜靶的主要供应商；攀时与世泰科为钼靶的主要供应商，住友化学，爱发科为铝靶的主要供应商；三井、JX 日矿金属和优美科则是ITO 靶材主要供应商。
作为半导体、显示面板等的关键核心材料，2019 年全球靶材市场约在160 亿美元左右，国内总需求占比超 30%。根据咨询公司行业报告测算，本土靶材厂商约占国内市场 30%的份额，对应90 亿元的营收总额，但是国内溅射靶材主要应用于中低端产品，而高端靶材产品则从美日韩进口，江丰电子、隆华科技、阿石创、有研新材、先导、映日、新疆众和、火炬安泰等国内头部企业靶材合计营收在30-40 亿元范围，占国内总需求10%左右。
伴随全球分工及产业链转移，本土企业正处在加速替代过程中。若我国靶材市场完全实现自给自足，且订单逐步向第一梯队企业聚集，则头部企业国产替代空间可达十倍。根据以上测算，叠加靶材国产替代进程不断加速的趋势，溅射靶材市场至少有十倍的进口替代空间。 https://t.cn/zQDk7Ky
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