【埃及吉萨金字塔】吉萨金字塔(Giza Pyr
https://t.cn/A6cOTJku你知道你的职业病是什么吗?你知道脊椎的重要性吗?
amids)是一个群体的总称,而不是一座单独的金字塔。吉萨金字塔中三座最大、保存最完好的金字塔是由第四王朝的3位皇帝胡夫金字塔(Khufu)、海夫拉金字塔(Khafra)和门卡乌拉金字塔(Menkaura)在公元前2600年至公元前2500年建造的。
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硅和 SiO2 的湿化学蚀刻
蚀刻机理
诸如KOH-、NaOH-或TMAH-溶液的强含水碱性介质蚀刻晶体硅通孔
硅+ 2 OH- + 2 H O 硅(OH) + H 二氧化硅(OH) 2- + 2 H
因为不同晶面的Si原子对于蚀刻反应具有不同的活化能,并且Si的KOH蚀刻不受扩散限制而是受蚀刻速率限制,所以蚀刻过程各向异性地发生:{100}和{110}面比稳定面蚀刻得更快
充当蚀刻停止{111}平面。
(111)取向的晶片
(111)取向的Si晶片几乎不受碱性溶液的侵蚀,因为在这里整个晶片表面形成蚀刻停止。因为晶片的实际取向通常相对于理想晶面倾斜几个±0.1°,对于名义上(111)取向的晶片,也会发生非常浅的台阶形式的蚀刻侵蚀。
(100)取向晶片
(100)取向的晶片在碱性蚀刻剂中形成具有{111}表面的基于正方形的金字塔。这些pyr- amids可以在单晶硅太阳能电池上实现,以达到反射最小化的目的。
(110)取向的晶片
(110)取向的晶片在碱性蚀刻剂中形成具有{111}侧壁的垂直沟槽,用作例如微机械和微流体中的微通道。
蚀刻速率
各向异性、绝对蚀刻速率和蚀刻的均匀性取决于
合适的蚀刻掩模
硅的各向异性蚀刻所需的高pH值和温度甚至会严重侵蚀在短时间内交联负性抗蚀剂,使得光致抗蚀剂掩模不成为此目的的问题。取而代之的是,使用通常由氮化硅、二氧化硅或诸如铬的碱性稳定金属膜制成的硬掩模,这些硬掩模又可以使用光致抗蚀剂掩模来构造。
硅的蚀刻速率
图122显示了室温下不同HF : HNO 3混合物中晶线硅的蚀刻速率。
当HF或HNO 3的浓度为-时,腐蚀速率下降到零非常低,因为在纯HF中没有SiO可以在HF和HNO 3中蚀刻的形式仅氧化硅而不蚀刻它。
蚀刻速率的精确控制要求温度精度在0.5℃以内。用乙酸稀释提高了疏水性Si表面的润湿性,从而提高了蚀刻速率的空间均匀性。
掺杂(n型和p型)硅显示出比未掺杂硅更高的蚀刻速率。
玻璃蚀刻
与SiO 2不同,各种成分的玻璃显示出它们的蚀刻速率与蚀刻中的添加剂之间的强依赖性。这种添加剂(例如HCl、HNO 3)溶解蚀刻过程中在玻璃上形成的表面膜,表面膜在HF中通常是化学惰性的,并且会停止或减缓用纯HF对玻璃的蚀刻。
因此,这种添加剂允许以恒定和高速率连续蚀刻。这允许在降低的HF浓度下提高蚀刻速率(=提高抗蚀剂剥离的稳定性)。#夏季如何正确医美# #如何评价恐怖片咒#
蚀刻机理
诸如KOH-、NaOH-或TMAH-溶液的强含水碱性介质蚀刻晶体硅通孔
硅+ 2 OH- + 2 H O 硅(OH) + H 二氧化硅(OH) 2- + 2 H
因为不同晶面的Si原子对于蚀刻反应具有不同的活化能,并且Si的KOH蚀刻不受扩散限制而是受蚀刻速率限制,所以蚀刻过程各向异性地发生:{100}和{110}面比稳定面蚀刻得更快
充当蚀刻停止{111}平面。
(111)取向的晶片
(111)取向的Si晶片几乎不受碱性溶液的侵蚀,因为在这里整个晶片表面形成蚀刻停止。因为晶片的实际取向通常相对于理想晶面倾斜几个±0.1°,对于名义上(111)取向的晶片,也会发生非常浅的台阶形式的蚀刻侵蚀。
(100)取向晶片
(100)取向的晶片在碱性蚀刻剂中形成具有{111}表面的基于正方形的金字塔。这些pyr- amids可以在单晶硅太阳能电池上实现,以达到反射最小化的目的。
(110)取向的晶片
(110)取向的晶片在碱性蚀刻剂中形成具有{111}侧壁的垂直沟槽,用作例如微机械和微流体中的微通道。
蚀刻速率
各向异性、绝对蚀刻速率和蚀刻的均匀性取决于
合适的蚀刻掩模
硅的各向异性蚀刻所需的高pH值和温度甚至会严重侵蚀在短时间内交联负性抗蚀剂,使得光致抗蚀剂掩模不成为此目的的问题。取而代之的是,使用通常由氮化硅、二氧化硅或诸如铬的碱性稳定金属膜制成的硬掩模,这些硬掩模又可以使用光致抗蚀剂掩模来构造。
硅的蚀刻速率
图122显示了室温下不同HF : HNO 3混合物中晶线硅的蚀刻速率。
当HF或HNO 3的浓度为-时,腐蚀速率下降到零非常低,因为在纯HF中没有SiO可以在HF和HNO 3中蚀刻的形式仅氧化硅而不蚀刻它。
蚀刻速率的精确控制要求温度精度在0.5℃以内。用乙酸稀释提高了疏水性Si表面的润湿性,从而提高了蚀刻速率的空间均匀性。
掺杂(n型和p型)硅显示出比未掺杂硅更高的蚀刻速率。
玻璃蚀刻
与SiO 2不同,各种成分的玻璃显示出它们的蚀刻速率与蚀刻中的添加剂之间的强依赖性。这种添加剂(例如HCl、HNO 3)溶解蚀刻过程中在玻璃上形成的表面膜,表面膜在HF中通常是化学惰性的,并且会停止或减缓用纯HF对玻璃的蚀刻。
因此,这种添加剂允许以恒定和高速率连续蚀刻。这允许在降低的HF浓度下提高蚀刻速率(=提高抗蚀剂剥离的稳定性)。#夏季如何正确医美# #如何评价恐怖片咒#
#英国思克莱德大学# 由思克莱德大学主领成立的苏格兰国家制造机构 (National Manufacturing Institute Scotland, NMIS) 近期已通过建筑许可,此机构将坐落于伦弗鲁郡(Renfrewshire) 的苏格兰高级建造创新区 (Advanced Manufacturing Innovation District Scotland, AMIDS),全新设施将协助并推进苏格兰制造业的发展与革新。[鼓掌]
当地政府已经为施工计划亮了绿灯,机构建筑外观将由石楠花紫色材料铺成,并实现整体“碳中和”,以减少二氧化碳排放对周围环境的影响。建筑占地面积约为1.5个汉普顿足球场 (Hampden football pitch),全新设备将帮助全国乃至全球各规模及类型的企业发展和研究。
NMIS是苏格兰唯一一所高价值制造弹射中心 (HVM Catapult Centre),此类研究中心在全英仅有7所。NMIS制造研究机构将由思克莱德大学运作,并已经受到苏格兰政府、苏格兰企业协会、高地和岛屿企业协会、高价值制造弹射中心、苏格兰技能发展、苏格兰基金委员会及伦弗鲁郡地方政府支持。
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NMIS是苏格兰唯一一所高价值制造弹射中心 (HVM Catapult Centre),此类研究中心在全英仅有7所。NMIS制造研究机构将由思克莱德大学运作,并已经受到苏格兰政府、苏格兰企业协会、高地和岛屿企业协会、高价值制造弹射中心、苏格兰技能发展、苏格兰基金委员会及伦弗鲁郡地方政府支持。
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