#生活哲理[超话]# 大气，是一种特殊的人格魅力。它是一个人做人做事的风范，也是一个人综合素质的体现。大气的人，从容大方、成熟宽厚，让人心折。 大气之人，做事沉着稳重，泰然自若，随时随地都保持冷静的头脑，沉着的心态。大气的人，不是无原则，无气节，而是小事不挂怀，世间无大事。胸如大海，只藏真纳善，拒绝虚假。为人越大气，福气就越深！。#善忠悟人生#
【荷兰拟对华限制出口DUV光刻等半导体技术，光刻胶国产替代迫在眉睫】
荷兰政府周三表示，计划对半导体技术出口实施新的限制以保护国家安全，加入美国遏制对华芯片出口的行列。据路透社报道，荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在给议会的一封信中宣布了这一决定，并表示这些限制将在夏季之前实施。
近些年，我国光刻胶市场规模增长迅速，但自给能力却严重不足。
据国际半导体产业协会（SEMI）统计，2021年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，同比增长19.49%，其中中国大陆市场依旧保持着最快的增速，达到4.93亿美元，较上年同期增长43.69%。
与极高的增长速度相比，光刻胶的国产化率极低，日美企业占据约70%份额，尤其依赖日本进口。
我国中高端胶如KrF光刻胶国产化率不及5%，ArF几乎空白，若此后日本相关限制措施落地，或将对国内半导体供应链安全造成较大的影响，中高端光刻胶国产替代迫在眉睫。
目前国内方面，近年来国内各大光刻胶厂商也已陆续取得突破，彤程新材KrF光刻胶率先实现放量，即将攻克ArF光刻胶；
徐州博康两款ArF光刻胶已通过验证，大批光刻胶产能即将投放；
据国君电子调研反馈，目前国内做的最好两家就是彤程新材（603650）和徐州博康（华懋科技603306参股23%）。
其中K胶做的最好的是彤程新材，有17个料号，现在供应十几吨，会加快吃掉其他公司的份额。大概杜邦260吨每年K胶，能吃掉，但料号验证需要时间+产能不够。
A胶，国内只有徐州博康做了出来。其他始终在验证。
近期，华创研报表示，彤程新材年产1.1万吨半导体、面板光刻胶及2万吨相关配套试剂项目预计2022年下半年投产，一款ArF光刻胶已通过了中芯北方验证，有望在2023Q1上量。
一、光刻胶介绍
光刻胶(photoresist)又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，主要由光刻胶树脂、增感剂（光引发剂+光增感剂+光致产酸剂）、单体、溶剂和其他助剂组成。
在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。
由于应用场景颇多，不同用途的光刻胶在曝光光源、制造工艺、成膜特性等性能要求不同，对材料的溶解性、耐蚀刻性和感光性能等要求不同，不同原料的占比会有很大幅度变化，其中光刻胶树脂是光刻胶主要成分，成本占比达到50%。
光刻胶为集成电路中极为重要的材料，作为图形媒介物质，用于芯片制造的光刻环节，是必不可缺的关键材料。
二、光刻胶在光刻中起到的作用
在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸，占芯片制造时间的
40-50%，占制造成本的30%。
在图形转移过程中，一般要对硅片进行十多次光刻，光刻胶需经预烘、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影和蚀刻等环节，将掩膜版上的图形转移到硅片上，形成与掩膜版对应的几何图形。
光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，是光电信息产业链中的核心环节之一。
以芯片制造为例，在晶圆清洗、热氧化后，需通过光刻和刻蚀工艺，将设计好的电路图案转移到晶圆表面上，实现电路布图，之后再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积、化学机械研磨等流程，最终在晶圆上实现特定的集成电路结构。
其中，光刻胶，是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量。
作为图像转移“中介”，光刻胶是通过曝光显影蚀刻工艺发挥转移作用，首先将光刻胶涂覆于有功能层的基底上，然后紫外光通过掩膜版进行曝光，在曝光区促使光刻胶发生溶解度变化反应，选择性改变其在显影液中的溶解度，未溶解部分最后在蚀刻过程中起保护作用，从而将掩模版上的图形转移到基底上。
三、光刻胶的分类
根据应用领域不同，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD（面板）光刻胶和半导体光刻胶，技术门槛逐渐递增。
根据Cision,2019年全球光刻胶市场规模约91亿美元，至2022年市
场规模将超过105亿美元，年化增长率约5%，其中，面板光刻胶，PCB光刻胶和半导体光刻胶的应用占比分别为27.8%、23.0%和21.9%。
根据化学反应机理不同，光刻胶可分正性光刻胶和负性光刻胶。
如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；
如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到2微米，因此正性光刻胶的应用更为普及。
四、半导体光刻胶细分
随着IC集成度的提高，集成电路的制程工艺水平已由微米级（1.0µm）、亚微米级（1.0-0.35µm）、深亚微米级（0.35µm以下）进入到纳米级（90-22nm）。
为适应集成电路线宽不断缩小的要求,光刻胶的波长也由紫外宽谱向g线(436nm)、i线(365nm）、KrF(248nm）、ArF(193nm)、EUV(13.5nm）的方向转移，曝光波长越短，光刻胶技术水平越高，适用的集成电路制程也更加先进。
根据TECHCET数据，从市场分布看，2021年ArF光刻胶占全球光刻胶市场规模的比例为48.1%，KrF占比34.7%，G/I线占14.7%。
国内方面，2020年我国ArF和KrF胶占比分别为44.0%和37.0%，占比最高，预计2021年我国半导体光刻胶规模达到29.0亿元。由于我国在建的晶圆产能基本为8寸和12寸产能，ArF和KrF胶的占比将会持续增高。
ArF光刻胶已是集成电路制造需求金额最大的光刻胶产品，随着未来集成电路产业的进一步发展，ArF光刻胶面临广阔的市场机遇。
此外，目前虽已有使用EUV来实现更高分辨率微细加工技术的试探，但由于新型微细加工技术的导入需要巨额的设备投资，半导体芯片制造商导入EUV加工技术的步伐暂未完全迈开。
但据长江介绍，半导体光刻胶并不完全仅用于其对应电路尺寸。
以KrF胶为例，虽然其对应的最精细工艺范围为0.13-0.35μm，但是KrF胶仍然可以用于0.13μm以下节点，包括28nm，原因在于28nm制程的芯片并不是每处都达到了精细度极限，由于ArF胶价格是KrF胶的几倍，下游客户出于节省成本目的，在芯片精细度较低的区域仍将使用用于低制程的光刻胶，也因此KrF胶成为全种类半导体光刻胶中，消耗量极高的胶种类，肩负起承上启下的作用。
五、半导体光刻胶市场空间
长江测算
根据Techcet预测，2021年全球半导体光刻胶市场规模约19亿美元，预计到2025年超过24亿美元，年化增长率为6%以上。
根据TrendBank,我国2021年半导体光刻胶市场预计29.0亿元。（2015年为17.8亿元）
中国作为未来全球晶圆产能增长的主力军，当前到2025年在建和计划8寸和12寸晶圆产能总共达到84万/片，增幅为当前的60%，结合到2021-2025年五年时间完全达产，给予平均每年12%作为我国半导体光刻胶中性复合增速；
由于我国的芯片产能结构将整体提高，2020年KrF和ArF的占比分别为37.0%和44.0%，给予二者未来更大的占比假设，KrF胶占比40.0%，ArF胶占比45.0%。
综上情况和假设判断到2025年，我国半导体光刻胶市场规模将保守在40亿元，乐观50亿元以上。
六、半导体光刻胶行业格局
1、全球格局
日本JSR等五家龙头企业占据全球光刻胶市场87%的份额，呈寡头垄断格局，其中JSR占据全球光刻胶市场28%的份额，东京应化占比21%，杜邦占比15%，信越化学占比13%，富士电子材料占比10%。
而作为光刻胶的高端应用，全球半导体光刻胶也集中于日美企业，日本JSR、东京应化等五家日本企业占据72%的市场份额，美国杜邦占据15%的市场份额。
从细分市场来看，日本厂商几乎垄断先进制程市场，占据全球64%以上的g/i线光刻胶市场、83%以上的ArF光刻胶市场、74%以上的KrF光刻胶市场。
据国海表示，日本主要光刻胶厂商已经实现领域内最先进的EUV光刻胶的量产，以陶氏、德国默克、锦湖石化为代表的其他发达国家光刻胶厂商也已实现ArF光刻胶的量产。
原材料方面，目前大部分原材料均为国外进口，原材料企业日本占到47%，尽管中国的原材料企业位列全球第二，但大部分目前处于研发和布局阶段，成熟材料供应企业均来自日本和美国。
中国企业如万润股份（002643）、圣泉集团（605589）、强力新材（300429）等在原材料树脂、感光剂等方面均有国产突破，但大部分仍属于低端产能或者高端产量极为有限，爬坡较为缓慢。
国内方面我国光刻胶行业发展起步较晚，生产能力主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品，其中PCB光刻胶占比达94%，而
TFT-LCD（面板用胶）、半导体光刻胶等高端产品仍需大量进口。
先进制程半导体光刻胶方面，目前适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶国内自给率约为10%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶国内自给率不足5%，适用于12寸硅片的ArF光刻胶国内基本依靠进口，而EUV光刻胶还仍处研发阶段。
国内企业正逐步突破高端光刻胶
EUV胶方面，北京科华（彤程新材子公司，持股57%）已通过02专项验收。
ArF胶方面，上海新阳、徐州博康正处于客户测试阶段，南大光电已获部分客户认证；
KrF胶方面，北京科华、上海新阳、徐州博康、晶瑞电材均具备量产能力。
国内光刻胶新增产能持续建设中
国内光刻胶新建项目也持续建设中，彤程新材6000吨/年显示面板光刻胶已于2022年1月投产，11000吨/年半导体、平板显示用光刻胶预计2022下半年完成建设并投产；
雅克科技国内产能也处于规划建设阶段，预计2023年投产，届时公司国内光刻胶产能将达1.97万吨/年；
华懋科技参股子公司徐州博康1100吨/年光刻胶材料也于2022年中投产；
同时，华懋科技还与徐州博康、东阳金投于2021年共同成立东阳华芯，拟建设年产8000吨中高端半导体光刻材料，预计2023年达产。随着国内产能的持续投放，国产替代率将逐步提升。
原材料国产化方面
光刻胶树脂方面，日本、美国企业目前占据主要市场。国内方面，圣泉、彤程新材、强力新材等目前开始逐步布局。
光引发剂方面，目前市场主要被日本、韩国、德国等国家的企业占据，目前国内强力新材、久日新材具备光刻胶引发剂量产能力。
单体方面，微芯新材、徐州博康、万润股份、瑞联新材具备量产能力。
溶剂方面，光刻胶溶剂制备技术壁垒相对较低，常用材料为丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA或PMA），国内企业涉足较多。目前国内有5家主要
生产厂商，分别为江苏华伦、江苏天音化学、百川股份、怡达股份、江苏三木。
总结，国海认为，目前虽然在总体研发和生产能力上，国内公司还不能完全与BASF等国际竞争对手全面抗衡，但经过多年技术积累，国内已形成一定光刻胶用电子化学品产能，相关公司市场份额逐步提升，国产替代正持续进行。
投资建议，综合考虑国内以光刻胶为代表的电子化学品行业的快速发展，首次覆盖，给予电子化学品行业“推荐”评级。
建议关注彤程新材、容大感光、晶瑞电材、飞凯材料、南大光电、华懋科技、上海新阳、雅克科技、万润股份。
荷兰政府周三表示，计划对半导体技术出口实施新的限制以保护国家安全，加入美国遏制对华芯片出口的行列。据路透社报道，荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在给议会的一封信中宣布了这一决定，并表示这些限制将在夏季之前实施。
近些年，我国光刻胶市场规模增长迅速，但自给能力却严重不足。
据国际半导体产业协会（SEMI）统计，2021年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，同比增长19.49%，其中中国大陆市场依旧保持着最快的增速，达到4.93亿美元，较上年同期增长43.69%。
与极高的增长速度相比，光刻胶的国产化率极低，日美企业占据约70%份额，尤其依赖日本进口。
我国中高端胶如KrF光刻胶国产化率不及5%，ArF几乎空白，若此后日本相关限制措施落地，或将对国内半导体供应链安全造成较大的影响，中高端光刻胶国产替代迫在眉睫。
目前国内方面，近年来国内各大光刻胶厂商也已陆续取得突破，彤程新材KrF光刻胶率先实现放量，即将攻克ArF光刻胶；
徐州博康两款ArF光刻胶已通过验证，大批光刻胶产能即将投放；
据国君电子调研反馈，目前国内做的最好两家就是彤程新材（603650）和徐州博康（华懋科技603306参股23%）。
其中K胶做的最好的是彤程新材，有17个料号，现在供应十几吨，会加快吃掉其他公司的份额。大概杜邦260吨每年K胶，能吃掉，但料号验证需要时间+产能不够。
A胶，国内只有徐州博康做了出来。其他始终在验证。
近期，华创研报表示，彤程新材年产1.1万吨半导体、面板光刻胶及2万吨相关配套试剂项目预计2022年下半年投产，一款ArF光刻胶已通过了中芯北方验证，有望在2023Q1上量。
一、光刻胶介绍
光刻胶(photoresist)又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，主要由光刻胶树脂、增感剂（光引发剂+光增感剂+光致产酸剂）、单体、溶剂和其他助剂组成。
在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。
由于应用场景颇多，不同用途的光刻胶在曝光光源、制造工艺、成膜特性等性能要求不同，对材料的溶解性、耐蚀刻性和感光性能等要求不同，不同原料的占比会有很大幅度变化，其中光刻胶树脂是光刻胶主要成分，成本占比达到50%。
光刻胶为集成电路中极为重要的材料，作为图形媒介物质，用于芯片制造的光刻环节，是必不可缺的关键材料。
二、光刻胶在光刻中起到的作用
在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸，占芯片制造时间的
40-50%，占制造成本的30%。
在图形转移过程中，一般要对硅片进行十多次光刻，光刻胶需经预烘、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影和蚀刻等环节，将掩膜版上的图形转移到硅片上，形成与掩膜版对应的几何图形。
光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，是光电信息产业链中的核心环节之一。
以芯片制造为例，在晶圆清洗、热氧化后，需通过光刻和刻蚀工艺，将设计好的电路图案转移到晶圆表面上，实现电路布图，之后再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积、化学机械研磨等流程，最终在晶圆上实现特定的集成电路结构。
其中，光刻胶，是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量。
作为图像转移“中介”，光刻胶是通过曝光显影蚀刻工艺发挥转移作用，首先将光刻胶涂覆于有功能层的基底上，然后紫外光通过掩膜版进行曝光，在曝光区促使光刻胶发生溶解度变化反应，选择性改变其在显影液中的溶解度，未溶解部分最后在蚀刻过程中起保护作用，从而将掩模版上的图形转移到基底上。
三、光刻胶的分类
根据应用领域不同，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD（面板）光刻胶和半导体光刻胶，技术门槛逐渐递增。
根据Cision,2019年全球光刻胶市场规模约91亿美元，至2022年市
场规模将超过105亿美元，年化增长率约5%，其中，面板光刻胶，PCB光刻胶和半导体光刻胶的应用占比分别为27.8%、23.0%和21.9%。
根据化学反应机理不同，光刻胶可分正性光刻胶和负性光刻胶。
如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；
如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到2微米，因此正性光刻胶的应用更为普及。
四、半导体光刻胶细分
随着IC集成度的提高，集成电路的制程工艺水平已由微米级（1.0µm）、亚微米级（1.0-0.35µm）、深亚微米级（0.35µm以下）进入到纳米级（90-22nm）。
为适应集成电路线宽不断缩小的要求,光刻胶的波长也由紫外宽谱向g线(436nm)、i线(365nm）、KrF(248nm）、ArF(193nm)、EUV(13.5nm）的方向转移，曝光波长越短，光刻胶技术水平越高，适用的集成电路制程也更加先进。
根据TECHCET数据，从市场分布看，2021年ArF光刻胶占全球光刻胶市场规模的比例为48.1%，KrF占比34.7%，G/I线占14.7%。
国内方面，2020年我国ArF和KrF胶占比分别为44.0%和37.0%，占比最高，预计2021年我国半导体光刻胶规模达到29.0亿元。由于我国在建的晶圆产能基本为8寸和12寸产能，ArF和KrF胶的占比将会持续增高。
ArF光刻胶已是集成电路制造需求金额最大的光刻胶产品，随着未来集成电路产业的进一步发展，ArF光刻胶面临广阔的市场机遇。
此外，目前虽已有使用EUV来实现更高分辨率微细加工技术的试探，但由于新型微细加工技术的导入需要巨额的设备投资，半导体芯片制造商导入EUV加工技术的步伐暂未完全迈开。
但据长江介绍，半导体光刻胶并不完全仅用于其对应电路尺寸。
以KrF胶为例，虽然其对应的最精细工艺范围为0.13-0.35μm，但是KrF胶仍然可以用于0.13μm以下节点，包括28nm，原因在于28nm制程的芯片并不是每处都达到了精细度极限，由于ArF胶价格是KrF胶的几倍，下游客户出于节省成本目的，在芯片精细度较低的区域仍将使用用于低制程的光刻胶，也因此KrF胶成为全种类半导体光刻胶中，消耗量极高的胶种类，肩负起承上启下的作用。
五、半导体光刻胶市场空间
长江测算
根据Techcet预测，2021年全球半导体光刻胶市场规模约19亿美元，预计到2025年超过24亿美元，年化增长率为6%以上。
根据TrendBank,我国2021年半导体光刻胶市场预计29.0亿元。（2015年为17.8亿元）
中国作为未来全球晶圆产能增长的主力军，当前到2025年在建和计划8寸和12寸晶圆产能总共达到84万/片，增幅为当前的60%，结合到2021-2025年五年时间完全达产，给予平均每年12%作为我国半导体光刻胶中性复合增速；
由于我国的芯片产能结构将整体提高，2020年KrF和ArF的占比分别为37.0%和44.0%，给予二者未来更大的占比假设，KrF胶占比40.0%，ArF胶占比45.0%。
综上情况和假设判断到2025年，我国半导体光刻胶市场规模将保守在40亿元，乐观50亿元以上。
六、半导体光刻胶行业格局
1、全球格局
日本JSR等五家龙头企业占据全球光刻胶市场87%的份额，呈寡头垄断格局，其中JSR占据全球光刻胶市场28%的份额，东京应化占比21%，杜邦占比15%，信越化学占比13%，富士电子材料占比10%。
而作为光刻胶的高端应用，全球半导体光刻胶也集中于日美企业，日本JSR、东京应化等五家日本企业占据72%的市场份额，美国杜邦占据15%的市场份额。
从细分市场来看，日本厂商几乎垄断先进制程市场，占据全球64%以上的g/i线光刻胶市场、83%以上的ArF光刻胶市场、74%以上的KrF光刻胶市场。
据国海表示，日本主要光刻胶厂商已经实现领域内最先进的EUV光刻胶的量产，以陶氏、德国默克、锦湖石化为代表的其他发达国家光刻胶厂商也已实现ArF光刻胶的量产。
原材料方面，目前大部分原材料均为国外进口，原材料企业日本占到47%，尽管中国的原材料企业位列全球第二，但大部分目前处于研发和布局阶段，成熟材料供应企业均来自日本和美国。
中国企业如万润股份（002643）、圣泉集团（605589）、强力新材（300429）等在原材料树脂、感光剂等方面均有国产突破，但大部分仍属于低端产能或者高端产量极为有限，爬坡较为缓慢。
国内方面我国光刻胶行业发展起步较晚，生产能力主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品，其中PCB光刻胶占比达94%，而
TFT-LCD（面板用胶）、半导体光刻胶等高端产品仍需大量进口。
先进制程半导体光刻胶方面，目前适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶国内自给率约为10%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶国内自给率不足5%，适用于12寸硅片的ArF光刻胶国内基本依靠进口，而EUV光刻胶还仍处研发阶段。
国内企业正逐步突破高端光刻胶
EUV胶方面，北京科华（彤程新材子公司，持股57%）已通过02专项验收。
ArF胶方面，上海新阳、徐州博康正处于客户测试阶段，南大光电已获部分客户认证；
KrF胶方面，北京科华、上海新阳、徐州博康、晶瑞电材均具备量产能力。
国内光刻胶新增产能持续建设中
国内光刻胶新建项目也持续建设中，彤程新材6000吨/年显示面板光刻胶已于2022年1月投产，11000吨/年半导体、平板显示用光刻胶预计2022下半年完成建设并投产；
雅克科技国内产能也处于规划建设阶段，预计2023年投产，届时公司国内光刻胶产能将达1.97万吨/年；
华懋科技参股子公司徐州博康1100吨/年光刻胶材料也于2022年中投产；
同时，华懋科技还与徐州博康、东阳金投于2021年共同成立东阳华芯，拟建设年产8000吨中高端半导体光刻材料，预计2023年达产。随着国内产能的持续投放，国产替代率将逐步提升。
原材料国产化方面
光刻胶树脂方面，日本、美国企业目前占据主要市场。国内方面，圣泉、彤程新材、强力新材等目前开始逐步布局。
光引发剂方面，目前市场主要被日本、韩国、德国等国家的企业占据，目前国内强力新材、久日新材具备光刻胶引发剂量产能力。
单体方面，微芯新材、徐州博康、万润股份、瑞联新材具备量产能力。
溶剂方面，光刻胶溶剂制备技术壁垒相对较低，常用材料为丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA或PMA），国内企业涉足较多。目前国内有5家主要
生产厂商，分别为江苏华伦、江苏天音化学、百川股份、怡达股份、江苏三木。
总结，国海认为，目前虽然在总体研发和生产能力上，国内公司还不能完全与BASF等国际竞争对手全面抗衡，但经过多年技术积累，国内已形成一定光刻胶用电子化学品产能，相关公司市场份额逐步提升，国产替代正持续进行。
投资建议，综合考虑国内以光刻胶为代表的电子化学品行业的快速发展，首次覆盖，给予电子化学品行业“推荐”评级。
建议关注彤程新材、容大感光、晶瑞电材、飞凯材料、南大光电、华懋科技、上海新阳、雅克科技、万润股份。
感谢时间，让我明白人生什么最重要。金钱财富只是过眼云烟，名利权势只是昙花一现，生不带来，死不带走，追逐一生，最后成空！
唯有真心的感情和健康的身体，才是最好的财富！
感谢时间，让我看清身边的每一个人。哪些是口蜜腹剑的小人，哪些是真心实意的朋友，哪些是见利忘义的人，哪些是雪中送炭的知己！
感谢时间，让我一点点改变，让我经历了所有。在坎坷中，我坚强了，在世故中，我成熟了，看懂了人心复杂，看透了悲伤难过，也学会了感恩，做到了知足。
感谢时间，让我明白了，身体不能透支，健康不能缺失，善良不能丢弃，骨气不能转移。要想被人尊重，就要言而有信，要想安稳一生，就要人品端正。
感谢时间，让我明白了，与人相处，要谨言慎行，处理事情，要仔细公平，对真诚的人，不能辜负，对恶毒的人，不能纵容。
感谢时间，让我明白，人生有限，生命短暂，别为不值得的人和事浪费时间，属于你的，不争也会有，不是你的，争来也没用，珍惜你所拥有的，感谢已经失去的，好好过往后余生！
感谢时间，虽然增长了年龄，但是也让我们成熟！虽然催老了容颜，但是也让心态稳重！
感谢时间，不言不语，却帮我们验证了真情，感谢时间，悄无声息，却让我们学会了进步。
人生道路上，我们越走越坚定，我们越活越年轻……祝一天好心情！
唯有真心的感情和健康的身体，才是最好的财富！
感谢时间，让我看清身边的每一个人。哪些是口蜜腹剑的小人，哪些是真心实意的朋友，哪些是见利忘义的人，哪些是雪中送炭的知己！
感谢时间，让我一点点改变，让我经历了所有。在坎坷中，我坚强了，在世故中，我成熟了，看懂了人心复杂，看透了悲伤难过，也学会了感恩，做到了知足。
感谢时间，让我明白了，身体不能透支，健康不能缺失，善良不能丢弃，骨气不能转移。要想被人尊重，就要言而有信，要想安稳一生，就要人品端正。
感谢时间，让我明白了，与人相处，要谨言慎行，处理事情，要仔细公平，对真诚的人，不能辜负，对恶毒的人，不能纵容。
感谢时间，让我明白，人生有限，生命短暂，别为不值得的人和事浪费时间，属于你的，不争也会有，不是你的，争来也没用，珍惜你所拥有的，感谢已经失去的，好好过往后余生！
感谢时间，虽然增长了年龄，但是也让我们成熟！虽然催老了容颜，但是也让心态稳重！
感谢时间，不言不语，却帮我们验证了真情，感谢时间，悄无声息，却让我们学会了进步。
人生道路上，我们越走越坚定，我们越活越年轻……祝一天好心情！
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