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华为新专利申请暗示生产7纳米，外媒泼冷水。
遭美裁国制多年，中国科技巨头华为（HuaWei）不仅手机业务大幅回防，半导体也难以采购及代工。华为11月公布一项EUV光刻新技术专利，暗示能够生产7纳米以下的芯片，突破美国围堵，但外媒不看好，称许多关键零组件只有荷商艾司摩尔能够供应，而后者因美禁国令而无法对中国出口。
华为11月公布一项新专利申请，《反射镜、光刻装置及其控制方法》，新专利提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。
不过外媒Tom's Hardware指出，专利申请并不等于能够制造设备，尤其EUV设备更是一项高度复杂的机器，需要许多先进零组件，并且与其他厂商的长期配合。此外，即便拥有EUV设备，仍需光罩、抗蚀剂及其他量产所需的材料。
拥有0.33数值孔径的EUV设备是目前最先进的半导体制造设备，但仅有艾司摩尔经过数十年的研发，并在英特尔、三星和台积电等半导体厂的资金支持下才取得成功，目前只有英特尔、美光、三星、SK海力士和台积电等5家半导体厂，已经使用或计划使用艾司摩尔的EUV设备。
华为将5G专利授权OPPO
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不过外媒Tom's Hardware指出，专利申请并不等于能够制造设备，尤其EUV设备更是一项高度复杂的机器，需要许多先进零组件，并且与其他厂商的长期配合。此外，即便拥有EUV设备，仍需光罩、抗蚀剂及其他量产所需的材料。
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