#ZUCC小喇叭#
近日，由“智能植物工厂”浙江省工程实验室青年科研骨干陈垣毅博士为第一作者撰写的学术论文《基于因果推理的城市路网交通瓶颈识别技术》（Identifying Traffic Bottleneck in Urban Road Networks via Causal Inference）被第六届传感云国际学术会议（6th International Symposium on Sensor-Cloud Systems）录用并获评最佳论文奖。
详情点击：https://t.cn/A65Ufizz
近日，由“智能植物工厂”浙江省工程实验室青年科研骨干陈垣毅博士为第一作者撰写的学术论文《基于因果推理的城市路网交通瓶颈识别技术》（Identifying Traffic Bottleneck in Urban Road Networks via Causal Inference）被第六届传感云国际学术会议（6th International Symposium on Sensor-Cloud Systems）录用并获评最佳论文奖。
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搞不懂这是瓶颈还是迷茫go and see
奥术火焰快速侵袭
力图打破场上困局
给我扛起这面大旗
无需在乎凡人的质疑
兜兜转转的路上
脑里充满了想象
做人没那么高尚
还在寻找着方向
却还要天天向上
马上把刻在脸上的疲惫全都划掉
谁人与我共鸣
开始大笑
现在把背在身上的负担全都卸掉
将这真理奉行
品尝自由的味道
在每个破晓
微光刺破经过的飞鸟
思想在放声的大叫
无根的票邮寄不到你曾经青春飞扬的学校
歌头水调白首酒窖一曲唱罢千万重的桀骜
横刀立马是谁在追
历史车轮是谁在推
恒星闪耀是谁在飞
渺小如我想做乌龟
生活有太多是非题太多事飞行也赶不及
争夺的那些不想听不小心中也都看不清
搞不懂这是瓶颈还是迷茫go and see
奥术火焰快速侵袭
力图打破场上困局
给我扛起这面大旗
无需在乎凡人的质疑
兜兜转转的路上
脑里充满了想象
做人没那么高尚
还在寻找着方向
却还要天天向上
马上把刻在脸上的疲惫全都划掉
谁人与我共鸣
开始大笑
现在把背在身上的负担全都卸掉
将这真理奉行
品尝自由的味道
在每个破晓
微光刺破经过的飞鸟
思想在放声的大叫
无根的票邮寄不到你曾经青春飞扬的学校
歌头水调白首酒窖一曲唱罢千万重的桀骜
横刀立马是谁在追
历史车轮是谁在推
恒星闪耀是谁在飞
渺小如我想做乌龟
生活有太多是非题太多事飞行也赶不及
争夺的那些不想听不小心中也都看不清
【MiniLED新赛道崛起，NAURA迎风启航】
MiniLED、MicroLED在近期成为了市场热词，诸多上市公司的年报中将2020年视为“Mini/MicroLED元年”。未来，4K、8K电视的市场扩张也将进一步带动LED显示技术的需求。作为新一代高清晰度终端显示技术，MiniLED芯片应用已成为行业热点，围绕它的一系列技术瓶颈也急需实现突破，从而带动LED芯片产业的新一轮高速增长。
作为一种新型的LED显示方案，MiniLED在技术方面日趋成熟。基于更小的芯粒尺寸（~100μm）制作需求，MiniLED芯片在工艺方面需要更好的一致性、更高的颗粒控制能力和更优的膜层质量。与传统LED芯片在制程方面存在的差异，是机遇也是挑战，而更先进的技术最终要落脚于更先进的设备。
北方华创近年来始终着力于开发更优性能、更大产能、更智能化的MiniLED设备。基于MiniLED芯片制作对设备性能的需求，NAURA积极布局相关设备研发，涵盖蓝绿光与红黄光芯片工艺，主要产品包括ICP刻蚀机、PECVD、PVD（AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter）、ALD等一系列设备。
NAURA LED ICP刻蚀设备（ELEDE® G380A）在传统ICP刻蚀设备的基础上，对上、下电极系统及设备加热控温系统进行了优化设计，实现了刻蚀均匀性的有效提升，完全满足MiniLED芯片的均匀性及边缘利用率要求。此设备适用于MiniLED多种材料刻蚀，覆盖蓝绿、红黄芯片全流程，包括深槽隔离刻蚀（Isolation）、电极刻蚀（Mesa）、介质反射层刻蚀（DBR）及红黄光刻蚀（AlGaInP），具有精准的线宽控制和高速刻蚀能力，可实现稳定量产并具备优异的刻蚀均匀性。设备配置了Cassette in Cassette out自动生产模式，可达到更好的颗粒控制能力。
NAURA LED PECVD设备（EPEE i800）采用托盘载片和多站动态作业模式，为MiniLED芯片制造提供了优良的PECVD工艺解决方案。NAURA通过对镀膜方式进行改进，实现了更优的片内和片间镀膜均匀性；通过对反应腔上、下电极系统的优化设计，实现了更大的单机产能输出。EPEE i800设备的镀膜均匀性、颗粒控制能力以及自动化程度明显提升，可实现工厂端自动化生产，完全满足MiniLED对芯片制造的要求。
ELEDE® G380A与EPEE i800等设备不仅能满足新一代MiniLED制程，还可应用于未来MicroLED制程的研发，其跨世代的工艺能力是客户技术发展及创新的一大助力。
NAURA还可提供对接厂务MES系统或者其他厂务自动化软件的解决方案；全流程自动化解决方案可帮助客户实现生产过程的无人化、信息化和智能化管理。
随着LED显示技术和产品的不断创新，新技术的每一次超越与落地，对于行业发展来说都具有重大意义，NAURA愿与业界同仁一起在半导体显示技术领域锐意进取、开拓创新，共谱新篇章。
MiniLED、MicroLED在近期成为了市场热词，诸多上市公司的年报中将2020年视为“Mini/MicroLED元年”。未来，4K、8K电视的市场扩张也将进一步带动LED显示技术的需求。作为新一代高清晰度终端显示技术，MiniLED芯片应用已成为行业热点，围绕它的一系列技术瓶颈也急需实现突破，从而带动LED芯片产业的新一轮高速增长。
作为一种新型的LED显示方案，MiniLED在技术方面日趋成熟。基于更小的芯粒尺寸（~100μm）制作需求，MiniLED芯片在工艺方面需要更好的一致性、更高的颗粒控制能力和更优的膜层质量。与传统LED芯片在制程方面存在的差异，是机遇也是挑战，而更先进的技术最终要落脚于更先进的设备。
北方华创近年来始终着力于开发更优性能、更大产能、更智能化的MiniLED设备。基于MiniLED芯片制作对设备性能的需求，NAURA积极布局相关设备研发，涵盖蓝绿光与红黄光芯片工艺，主要产品包括ICP刻蚀机、PECVD、PVD（AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter）、ALD等一系列设备。
NAURA LED ICP刻蚀设备（ELEDE® G380A）在传统ICP刻蚀设备的基础上，对上、下电极系统及设备加热控温系统进行了优化设计，实现了刻蚀均匀性的有效提升，完全满足MiniLED芯片的均匀性及边缘利用率要求。此设备适用于MiniLED多种材料刻蚀，覆盖蓝绿、红黄芯片全流程，包括深槽隔离刻蚀（Isolation）、电极刻蚀（Mesa）、介质反射层刻蚀（DBR）及红黄光刻蚀（AlGaInP），具有精准的线宽控制和高速刻蚀能力，可实现稳定量产并具备优异的刻蚀均匀性。设备配置了Cassette in Cassette out自动生产模式，可达到更好的颗粒控制能力。
NAURA LED PECVD设备（EPEE i800）采用托盘载片和多站动态作业模式，为MiniLED芯片制造提供了优良的PECVD工艺解决方案。NAURA通过对镀膜方式进行改进，实现了更优的片内和片间镀膜均匀性；通过对反应腔上、下电极系统的优化设计，实现了更大的单机产能输出。EPEE i800设备的镀膜均匀性、颗粒控制能力以及自动化程度明显提升，可实现工厂端自动化生产，完全满足MiniLED对芯片制造的要求。
ELEDE® G380A与EPEE i800等设备不仅能满足新一代MiniLED制程，还可应用于未来MicroLED制程的研发，其跨世代的工艺能力是客户技术发展及创新的一大助力。
NAURA还可提供对接厂务MES系统或者其他厂务自动化软件的解决方案；全流程自动化解决方案可帮助客户实现生产过程的无人化、信息化和智能化管理。
随着LED显示技术和产品的不断创新，新技术的每一次超越与落地，对于行业发展来说都具有重大意义，NAURA愿与业界同仁一起在半导体显示技术领域锐意进取、开拓创新，共谱新篇章。
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