油痘皮秋冬保姆级护肤思路
（敏皮/干皮也能借鉴）
还是那句话 教不会你 可以直接取关！
如果自己不愿意认真看 认真学
看完了还说自己不会 那也请取关
————————
⭐️油痘皮秋冬护肤重点：保湿修护+维稳
✔️保湿就是把你在用的水/精华/乳液/面霜 都换成保湿度好的产品 不需要再用太多控油产品（可自行调整 脸干就保湿 脸油就控油）
✔️修护指的是改善秋冬容易出现的干燥爆皮 刺痛红痒 外油内干这些屏障受损问题 一般是因为不合理用酸/用了过于控油的产品/没有做好保湿/外界温差刺激等原因导致的
✔️维稳指的是预防秋冬皮肤长痘/闷痘/受损的情况 维持皮肤长期稳定状态 保湿修护产品做辅助 抗炎舒缓产品+酸类产品的核心思路仍然不变 但要更加温和 更注重使用方法 也要更适合秋冬需求
————————
⭐️油痘秋冬护肤通用流程
（按顺序来用这些产品 从轻薄到厚重 老手可以根据自己的需求来灵活调整）
☀️早：温和洁面+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+修护型乳液或面霜+不太控油的防晒
晚：温和卸妆+温和洁面+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+修护型乳液或面霜+局部点涂点痘凝胶
（周护理一般是在晚上加入全脸用的酸类或者A醇产品 一周一两次即可）
普通皮肤晚间周护理：温和洁面后+乳霜类酸膜20分钟洗掉后+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+修护型乳液或面霜+局部点涂祛痘凝胶
耐受皮肤晚间周护理：温和洁面后+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+A醇产品+修护型乳液或面霜
————————————
⭐️油痘秋冬护肤产品库
我保证这些产品都会有80%的满意率 如果不好用 不适合油痘肌我是不会随便放上来的
（干皮敏皮这些产品也基本上都可以用）
所以你基本上可以盲买 不需要比较谁和谁更好 只看你的需求更适合哪个
如果你想做更细致的功课 请在我主页搜索这个产品 我基本上都写过的
——————————
⭐️1、卸妆/洗卸合一类
防水类的彩妆和防晒 请你一定用卸妆
只用普通防晒和散粉不用专门卸妆 洁面即可
洗卸合一不一定能洗干净底妆和防晒 需要自己尝试
✔️LAN糯感卸妆油（米浆质地 温和 洗完水润无膜感）
✔️红之卸妆油/无语卸妆油/花西子卸妆油（这几个都好用 随便买）
✔️VAA卸妆膏（国货卸妆天花板了 不多说 好用 有预算必买）
✔️简单叶子卸妆棉片（出差旅行急救用 不需要天天用 水润清爽不黏腻 卸妆能力偏弱）
✔️惜玥洗卸合一/书呆子净润洁面/肌活洁颜蜜/LAN防晒洁面（这几个都可以做洗卸合一 但都不一定能卸干净防水类型 需要自己尝试 因为每个人的脸真的不同）
————————
⭐️2、温和洁面
配方温和 洗完水润保湿不拔干 不假滑为主
早晚都可以用
✔️佳简洁颜蜜（我认证的国货洁颜蜜第一名 我看谁还没买）
✔️宝拉大地之源（经典apg洁面 用来用去还得是它）
✔️A24橘灿洁面（apg洁面 很正宗的柑橘调 水润保湿 秋冬用特别好）
✔️瑷尔博士酵粹洁面/泊本氨基酸洁面（温和好用的氨基酸膏状洁面）
✔️皮宝洁面慕斯/丝塔芙小云朵洁面（直泡型温和氨基酸洁面）
————————
⭐️3、保湿舒缓水
（这一步你也可以用保湿修护型的精华来代替水用）
✔️瑷尔博士微晶水（平衡维稳菌群 抗老修护 我已经安利到天荒地老了 必须人手一瓶！）
✔️肌活小蓝棒（夏天用10泵都完全不会黏 乳化体系做的非常好 保湿嫩肤效果为主）
✔️米蓓尔粉水（微乳化的水 保湿修护+提亮肤色）
✔️佳简玻尿酸水（水滑质地 洁面后用防止干燥紧绷）
✔️馥郁满铺大金砖水（保湿发酵嫩肤水 适合外油内干 有闭口的皮肤）
✔️沫润祛痘精华水（痘皮秋冬必买 非常水润 祛痘维稳的同时还不刺激 ）
✔️艾酸氏茶萃水（抗炎抗氧化精华水 保湿度不会特别强 需要后续叠加别的保湿）
✔️惜玥蓝瓶B5/阿噗噜B5/JohnJeff10%B5（三款都是10%浓度 保湿修护好 惜玥黏稠一点急救效果好 其它两个适合日常用）
✔️上水和肌肌底液（经典屏障修护保湿精华 蛋清滑感 会起白沫 除此之外都挺好的）
✔️配方至上CER精华/Purid4号（都是保湿修护型精华的定位 很好用）
✔️可复美胶原棒（急救修护可用来第一步打底用 拯救烂脸必备）
✔️专妍蓝buff精华/芮生夜精华（敏感肌修护屏障必入！！！两款都是让你的皮肤越来越强韧和稳定的 还附带抗老效果）
————————
⭐️4、抗炎舒缓精华
（选择很多 不同成分你还可以叠加）
✔️朵拉妈妈七叶树（秋冬脸容易红烫的必入 想改善红痘印也可以用）
✔️艾酸氏甘草亭酸（不多说了 跟我护肤的应该人手一瓶了 综合型舒缓精华 褪红能力好）
✔️Acaderma Oasis（最适合秋冬的保湿舒缓精华 效果好 水状凝露质地）
✔️初尹油橄榄/神秘博士油橄榄/安修泽油橄榄/Purid2号新版/成分星球油橄榄/JohnJeff油橄榄（初尹和安修泽比较黏 适合急救 其它几款适合日常用）
✔️皮宝小蓝瓶（保湿舒缓好 有GP4G适合秋冬）
————————
⭐️5、修护型乳液面霜
（也可以用乳液型的精华来代替乳液面霜）
✔️逆时妍四维精华（轻薄乳液质地 鸡尾酒型 抗老抗氧化修护兼顾）
✔️珀莱雅源力精华/三月理五谷精华（都是乳液型的舒缓修护精华 源力附带抗老效果）
✔️逐本小愈瓶（从基底让你皮肤强韧起来 让你养成健康皮的精华 非常好用）
✔️野兽代码山海精华/Topix SRS（抗氧防御+dna修护型精华 轻薄乳液质地 非常推荐 早晚都可以用）
✔️皮宝修护霜/研译修护霜/成分星球安肤霜/无语轻乳霜/米蓓尔修护霜（都比薇诺娜便宜好用 滋润度由低到高排列 秋冬油皮都能用）
✔️Topix绿茶面霜（抗氧化修护为主 搭配A醇也很绝）
✔️小沁柑橘果面霜/科瑞肤兜底面霜（都是加料豪华的修护霜 小沁更滋润一些 但也不油 科瑞肤更清爽 屏障受损必入）
✔️Purid绿洲凝霜（保湿之外 还有抗氧化抗污染效果）
✔️三式乳液/三式宝塔面霜（乳液偏舒缓 面霜偏修护抗老）
✔️赫莲娜黑绷带/羽西鎏金面霜（玻色因抗老修护面霜 油皮秋冬无压力 晚间最好搭配A醇用）
————————
⭐️6、秋冬物理防晒
相对来说更适合秋冬（夏季也能用）
✔️Cartlab防晒（物化结合 肤感柔润顺滑 有润色效果 后续控油收敛）
✔️Transino/蜜浓防晒（刚上脸柔润 后续收敛拔干 需要做好保湿）
✔️Murad纯物理（肤感比较油润 适合干皮）
✔️Janmarini防晒/宝拉猪肝防晒（润色纯物理 肤感柔润细腻 不搓泥 后续哑光）
——————————
⭐️7、点痘凝胶
（一定要多买几个 换着用 不要一款产品一直用 不然会没效果）
✔️艾酸氏20%壬二酸（红肿痘囊肿痘必入）
✔️Murad祛痘凝胶/Cosmedix Clarity（同样是急救 对付红肿痘囊肿痘）
✔️芙清凝胶（破损痘愈合用 白天可用）
✔️简单叶子点痘凝胶（破损痘 闭口 普通红痘都可用 白天可用）
✔️Provamed紫色款/芙芙点痘凝胶/Weitogo凝胶（对付普通痘痘 闭口 痘痘好了还没消都可以用）
✔️野兽代码痘肌遮暇（白天最后一步遮暇+祛痘用）
————————
⭐️8、周护理A醇/乳霜类酸膜产品
A醇：
✔️瑷尔博士A醇（清爽啫喱质地）
✔️Murad/奥杰尼A醇（欧美系里超好用的A醇）
✔️希川科颜双管A醇/珀莱雅红宝石/安修泽紫标精华（国货入门级A醇 耐受皮不用考虑）
乳霜类酸膜：
✔️LAN/珀莱雅多酸面膜（这两款都好用 LAN质地更细腻一些）
✔️肌活天老爷面膜（乳酪质地 非常适合敏感肌用 尤其是爱长闭口的皮肤）
酸膜用法一般是敷20多分钟洗掉后再正常护肤 不需要敷一个保湿面膜！！！
敷的过程中配合按摩一下闭口痘痘多的部位！按摩这个步骤很重要 一定要做！
————————
⭐️9、其它全脸用酸类产品可选：
✔️艾酸氏五酸精华
✔️艾酸氏六酸冻膜
✔️迷之果酸水
✔️博优研五酸水
✔️艾酸氏南瓜水
✔️三月理红茶水
✔️简单叶子水杨酸棉片
这些东西怎么加到流程里？
❗️❗️❗️重要原则：
不要早上用
不要每天用
不要两个刺激产品一起用
选择一周两到三次晚上用
❗️❗️❗️使用方法：
1.酸膜后正常护肤
2.酸水/酸棉片 代替水的步骤用 后续正常用精华和乳液面霜
3.酸类精华在水后用 用完加上舒缓修护精华和乳液面霜
（敏皮/干皮也能借鉴）
还是那句话 教不会你 可以直接取关！
如果自己不愿意认真看 认真学
看完了还说自己不会 那也请取关
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⭐️油痘皮秋冬护肤重点：保湿修护+维稳
✔️保湿就是把你在用的水/精华/乳液/面霜 都换成保湿度好的产品 不需要再用太多控油产品（可自行调整 脸干就保湿 脸油就控油）
✔️修护指的是改善秋冬容易出现的干燥爆皮 刺痛红痒 外油内干这些屏障受损问题 一般是因为不合理用酸/用了过于控油的产品/没有做好保湿/外界温差刺激等原因导致的
✔️维稳指的是预防秋冬皮肤长痘/闷痘/受损的情况 维持皮肤长期稳定状态 保湿修护产品做辅助 抗炎舒缓产品+酸类产品的核心思路仍然不变 但要更加温和 更注重使用方法 也要更适合秋冬需求
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⭐️油痘秋冬护肤通用流程
（按顺序来用这些产品 从轻薄到厚重 老手可以根据自己的需求来灵活调整）
☀️早：温和洁面+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+修护型乳液或面霜+不太控油的防晒
晚：温和卸妆+温和洁面+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+修护型乳液或面霜+局部点涂点痘凝胶
（周护理一般是在晚上加入全脸用的酸类或者A醇产品 一周一两次即可）
普通皮肤晚间周护理：温和洁面后+乳霜类酸膜20分钟洗掉后+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+修护型乳液或面霜+局部点涂祛痘凝胶
耐受皮肤晚间周护理：温和洁面后+保湿舒缓水+抗炎舒缓精华+A醇产品+修护型乳液或面霜
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⭐️油痘秋冬护肤产品库
我保证这些产品都会有80%的满意率 如果不好用 不适合油痘肌我是不会随便放上来的
（干皮敏皮这些产品也基本上都可以用）
所以你基本上可以盲买 不需要比较谁和谁更好 只看你的需求更适合哪个
如果你想做更细致的功课 请在我主页搜索这个产品 我基本上都写过的
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⭐️1、卸妆/洗卸合一类
防水类的彩妆和防晒 请你一定用卸妆
只用普通防晒和散粉不用专门卸妆 洁面即可
洗卸合一不一定能洗干净底妆和防晒 需要自己尝试
✔️LAN糯感卸妆油（米浆质地 温和 洗完水润无膜感）
✔️红之卸妆油/无语卸妆油/花西子卸妆油（这几个都好用 随便买）
✔️VAA卸妆膏（国货卸妆天花板了 不多说 好用 有预算必买）
✔️简单叶子卸妆棉片（出差旅行急救用 不需要天天用 水润清爽不黏腻 卸妆能力偏弱）
✔️惜玥洗卸合一/书呆子净润洁面/肌活洁颜蜜/LAN防晒洁面（这几个都可以做洗卸合一 但都不一定能卸干净防水类型 需要自己尝试 因为每个人的脸真的不同）
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⭐️2、温和洁面
配方温和 洗完水润保湿不拔干 不假滑为主
早晚都可以用
✔️佳简洁颜蜜（我认证的国货洁颜蜜第一名 我看谁还没买）
✔️宝拉大地之源（经典apg洁面 用来用去还得是它）
✔️A24橘灿洁面（apg洁面 很正宗的柑橘调 水润保湿 秋冬用特别好）
✔️瑷尔博士酵粹洁面/泊本氨基酸洁面（温和好用的氨基酸膏状洁面）
✔️皮宝洁面慕斯/丝塔芙小云朵洁面（直泡型温和氨基酸洁面）
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⭐️3、保湿舒缓水
（这一步你也可以用保湿修护型的精华来代替水用）
✔️瑷尔博士微晶水（平衡维稳菌群 抗老修护 我已经安利到天荒地老了 必须人手一瓶！）
✔️肌活小蓝棒（夏天用10泵都完全不会黏 乳化体系做的非常好 保湿嫩肤效果为主）
✔️米蓓尔粉水（微乳化的水 保湿修护+提亮肤色）
✔️佳简玻尿酸水（水滑质地 洁面后用防止干燥紧绷）
✔️馥郁满铺大金砖水（保湿发酵嫩肤水 适合外油内干 有闭口的皮肤）
✔️沫润祛痘精华水（痘皮秋冬必买 非常水润 祛痘维稳的同时还不刺激 ）
✔️艾酸氏茶萃水（抗炎抗氧化精华水 保湿度不会特别强 需要后续叠加别的保湿）
✔️惜玥蓝瓶B5/阿噗噜B5/JohnJeff10%B5（三款都是10%浓度 保湿修护好 惜玥黏稠一点急救效果好 其它两个适合日常用）
✔️上水和肌肌底液（经典屏障修护保湿精华 蛋清滑感 会起白沫 除此之外都挺好的）
✔️配方至上CER精华/Purid4号（都是保湿修护型精华的定位 很好用）
✔️可复美胶原棒（急救修护可用来第一步打底用 拯救烂脸必备）
✔️专妍蓝buff精华/芮生夜精华（敏感肌修护屏障必入！！！两款都是让你的皮肤越来越强韧和稳定的 还附带抗老效果）
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⭐️4、抗炎舒缓精华
（选择很多 不同成分你还可以叠加）
✔️朵拉妈妈七叶树（秋冬脸容易红烫的必入 想改善红痘印也可以用）
✔️艾酸氏甘草亭酸（不多说了 跟我护肤的应该人手一瓶了 综合型舒缓精华 褪红能力好）
✔️Acaderma Oasis（最适合秋冬的保湿舒缓精华 效果好 水状凝露质地）
✔️初尹油橄榄/神秘博士油橄榄/安修泽油橄榄/Purid2号新版/成分星球油橄榄/JohnJeff油橄榄（初尹和安修泽比较黏 适合急救 其它几款适合日常用）
✔️皮宝小蓝瓶（保湿舒缓好 有GP4G适合秋冬）
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⭐️5、修护型乳液面霜
（也可以用乳液型的精华来代替乳液面霜）
✔️逆时妍四维精华（轻薄乳液质地 鸡尾酒型 抗老抗氧化修护兼顾）
✔️珀莱雅源力精华/三月理五谷精华（都是乳液型的舒缓修护精华 源力附带抗老效果）
✔️逐本小愈瓶（从基底让你皮肤强韧起来 让你养成健康皮的精华 非常好用）
✔️野兽代码山海精华/Topix SRS（抗氧防御+dna修护型精华 轻薄乳液质地 非常推荐 早晚都可以用）
✔️皮宝修护霜/研译修护霜/成分星球安肤霜/无语轻乳霜/米蓓尔修护霜（都比薇诺娜便宜好用 滋润度由低到高排列 秋冬油皮都能用）
✔️Topix绿茶面霜（抗氧化修护为主 搭配A醇也很绝）
✔️小沁柑橘果面霜/科瑞肤兜底面霜（都是加料豪华的修护霜 小沁更滋润一些 但也不油 科瑞肤更清爽 屏障受损必入）
✔️Purid绿洲凝霜（保湿之外 还有抗氧化抗污染效果）
✔️三式乳液/三式宝塔面霜（乳液偏舒缓 面霜偏修护抗老）
✔️赫莲娜黑绷带/羽西鎏金面霜（玻色因抗老修护面霜 油皮秋冬无压力 晚间最好搭配A醇用）
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⭐️6、秋冬物理防晒
相对来说更适合秋冬（夏季也能用）
✔️Cartlab防晒（物化结合 肤感柔润顺滑 有润色效果 后续控油收敛）
✔️Transino/蜜浓防晒（刚上脸柔润 后续收敛拔干 需要做好保湿）
✔️Murad纯物理（肤感比较油润 适合干皮）
✔️Janmarini防晒/宝拉猪肝防晒（润色纯物理 肤感柔润细腻 不搓泥 后续哑光）
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⭐️7、点痘凝胶
（一定要多买几个 换着用 不要一款产品一直用 不然会没效果）
✔️艾酸氏20%壬二酸（红肿痘囊肿痘必入）
✔️Murad祛痘凝胶/Cosmedix Clarity（同样是急救 对付红肿痘囊肿痘）
✔️芙清凝胶（破损痘愈合用 白天可用）
✔️简单叶子点痘凝胶（破损痘 闭口 普通红痘都可用 白天可用）
✔️Provamed紫色款/芙芙点痘凝胶/Weitogo凝胶（对付普通痘痘 闭口 痘痘好了还没消都可以用）
✔️野兽代码痘肌遮暇（白天最后一步遮暇+祛痘用）
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⭐️8、周护理A醇/乳霜类酸膜产品
A醇：
✔️瑷尔博士A醇（清爽啫喱质地）
✔️Murad/奥杰尼A醇（欧美系里超好用的A醇）
✔️希川科颜双管A醇/珀莱雅红宝石/安修泽紫标精华（国货入门级A醇 耐受皮不用考虑）
乳霜类酸膜：
✔️LAN/珀莱雅多酸面膜（这两款都好用 LAN质地更细腻一些）
✔️肌活天老爷面膜（乳酪质地 非常适合敏感肌用 尤其是爱长闭口的皮肤）
酸膜用法一般是敷20多分钟洗掉后再正常护肤 不需要敷一个保湿面膜！！！
敷的过程中配合按摩一下闭口痘痘多的部位！按摩这个步骤很重要 一定要做！
————————
⭐️9、其它全脸用酸类产品可选：
✔️艾酸氏五酸精华
✔️艾酸氏六酸冻膜
✔️迷之果酸水
✔️博优研五酸水
✔️艾酸氏南瓜水
✔️三月理红茶水
✔️简单叶子水杨酸棉片
这些东西怎么加到流程里？
❗️❗️❗️重要原则：
不要早上用
不要每天用
不要两个刺激产品一起用
选择一周两到三次晚上用
❗️❗️❗️使用方法：
1.酸膜后正常护肤
2.酸水/酸棉片 代替水的步骤用 后续正常用精华和乳液面霜
3.酸类精华在水后用 用完加上舒缓修护精华和乳液面霜
碍于这是我那八十多岁的班主任热情推给我的帖子 我就点开看看吧（说实话有关张网红的东西我是真不爱看[调皮]）
结果大出所料跟我想象的完全阀搭界[笑cry]（这也是我不喜欢看微信公众号的原因纯他妈卖字胡扯又滞后/还带偏）
你们兴趣可以去搜索来看看
不知道里面提到的张医生是否真的有过那样的言论 如果是真的 那也挺扯的 因为那些理论其实就是中医一直推崇的... 作为西医的专家级人物 他怎么可能推出那样的观点[阴险] ...那不是在断西医的财路嘛[挤眼] ... 西医不就是指着体检/发现/治疗/终生服药...来不断“昌明”嘛[阴险]
也许 这类公众号的写手拿“张文宏”三个字也当流量密码吧[调皮] ...他就是这么被他的（黑）粉玩坏的[偷笑]
结果大出所料跟我想象的完全阀搭界[笑cry]（这也是我不喜欢看微信公众号的原因纯他妈卖字胡扯又滞后/还带偏）
你们兴趣可以去搜索来看看
不知道里面提到的张医生是否真的有过那样的言论 如果是真的 那也挺扯的 因为那些理论其实就是中医一直推崇的... 作为西医的专家级人物 他怎么可能推出那样的观点[阴险] ...那不是在断西医的财路嘛[挤眼] ... 西医不就是指着体检/发现/治疗/终生服药...来不断“昌明”嘛[阴险]
也许 这类公众号的写手拿“张文宏”三个字也当流量密码吧[调皮] ...他就是这么被他的（黑）粉玩坏的[偷笑]
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集成电路基础知识：
1.产业链名词解释
2.产业链结构（芯片设计，芯片制造，芯片封装测试，半导体设备，半导体材料）
一、电子集成技术简述
电子集成技术简述
电子集成技术，也就是我们熟悉的集成电路技术（IC），是指采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型结构。
二、集成电路的制作过程：
1、首先，晶圆制造厂会将硅纯化，溶解成液态，从中拉出柱状的硅晶柱。一边旋转一边成型，旋转拉起的速度以及温度的控制影响到整体质量。晶柱切成薄片，经过抛光后，变成晶圆。
2、硅纯度，拉晶速度与温度控制，晶圆会在无尘的状态下送到无尘室并分装到密封的容器中，
3、光罩制作。光罩厂会将完成的光罩送进晶圆厂。晶圆上面会事先涂上一层光阻，透过紫外光的照射与凸透镜聚光效果。光罩上的电路结构被缩小并烙印在晶圆上，最后印在晶圆上的半导体迴路会从光罩的1微米，变为0.1微米。光刻制程结束后，工程师会在晶圆上加入离子。透过注入杂质到硅的结构中控制导电性，与一连串的物理过程，制造出电晶体。
4、待晶圆上的电晶体，二极体等电子元件制作完成后，工程师将铜倒入沟槽中，形成精细的接线。将许多电晶体连结起来。导线连接了数亿个电晶体，即可制作成大型集成电路。
1、流片：
像流水线一样通过一系列工艺步骤制造芯片，这就是流片。
在集成电路设计领域，“流片”指的是“试生产”，就是说设计完电路以后，先生产几片几十片，供测试用。如果测试通过，就照着这个样子开始大规模生产了。
2、掩膜：
1.什么是掩膜
首先我们从物理的角度来看看mask到底是什么过程。
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。
2.掩膜的用法
2.1 提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；
2.2 屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；
2.3 结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；
3、多晶圆
2010年1月21日上海集成电路技术与产业促进中心就推出多项目晶圆（Multi-Project Wafer，简称MPW）服务，可以使流片费下降90%-95%。
MPW服务是将多个具有相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片加工服务，每个设计品种可以得到数十片芯片样品，用于产品研发阶段的实验和验证测试。MPW流片费用由所有参加MPW的项目按照芯片所占面积分摊，实际成本仅为原来的5%-10%，不但大幅降低了集成电路研发阶段的成本，也为集成电路设计工程师的大胆实践提供了相对宽松的条件，有效地推动了集成电路设计的创新发展。
硅基材料
硅基半导体材料是以硅材料为基础发展起来的新型材料。包括绝缘层上的硅材料、锗硅材料、多孔硅、微晶硅以及以硅为基底异质外延其他化合物半导体材料等。
EDA软件
EDA（ElectronicDesignAutomation,电子设计自动化）：是指利用计算机软件完成大规模集成电路设计、仿真、验证等流程的设计方式。EDA软件是集成电路领域的上游基础工具，贯穿于集成电路设计、制造、封测等环节，是集成电路产业的战略基础支柱之一。
硅知识产权（IP）
芯片行业中所说的IP，一般也称为IP核。IP核是指芯片中具有独立功能的电路模块的成熟设计。该电路模块设计可以应用在包含该电路模块的其他芯片设计项目中，从而减少设计工作量，缩短设计周期，提高芯片设计的成功率。该电路模块的成熟设计凝聚着设计者的智慧，体现了设计者的知识产权，因此，芯片行业就用IP核(Intellectual Property Core)来表示这种电路模块的成熟设计。IP核也可以理解为芯片设计的中间构件。一般说来，一个复杂的芯片是由芯片设计者自主设计的电路部分和多个外购的IP核连接构成的。
芯片架构
芯片架构是指对芯片对象类别和属性的描述，对于每一个对象类别来说，该架构定义了对象类必须具有的属性，它也可以有附加的属性，并且该对象可以是它的父对象。
架构是个很模糊的词，具体含义跟语境有关。通常提到 SOC 芯片架构时，一般指的是嵌入式处理器核心的类型，当提到 x86 或 arm 架构时，指的是指令集。当探讨芯片设计时，讨论的是电路实现级别的微架构。
CPU 是个解释器，架构是它的算法，RTL 是算法的实现，MuxReg 队列操作是它 emit 的 target。更好架构就是更好的算法，能用更少操作在更紧的 constraint 下做完同样一件事。
目前市场上主流的芯片架构有X86、ARM、RiSC-V和MIPS四种。 X86是微处理器执行的计算机语言指令集，指一个intel通用计算机系列的标准编号缩写，也标识一套通用的计算机指令集合。
光刻机
光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻胶
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。
芯片制程
芯片制程指的是晶体管结构中的栅极的线宽，也就是纳米工艺中的数值，宽度越窄，功耗越低。
一般说的芯片14nm、10nm、7nm、5nm，指的是芯片的制程工艺，也就是处理内CPU和GPU表面晶体管门电路的尺寸。一般来说制程工艺先进，晶体管的体积就越小，那么相同尺寸的芯片表面可以容纳的晶体管数量就越多，性能也就越强。
惠企政策请点击https://t.cn/A6aOjVEz
集成电路基础知识：
1.产业链名词解释
2.产业链结构（芯片设计，芯片制造，芯片封装测试，半导体设备，半导体材料）
一、电子集成技术简述
电子集成技术简述
电子集成技术，也就是我们熟悉的集成电路技术（IC），是指采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型结构。
二、集成电路的制作过程：
1、首先，晶圆制造厂会将硅纯化，溶解成液态，从中拉出柱状的硅晶柱。一边旋转一边成型，旋转拉起的速度以及温度的控制影响到整体质量。晶柱切成薄片，经过抛光后，变成晶圆。
2、硅纯度，拉晶速度与温度控制，晶圆会在无尘的状态下送到无尘室并分装到密封的容器中，
3、光罩制作。光罩厂会将完成的光罩送进晶圆厂。晶圆上面会事先涂上一层光阻，透过紫外光的照射与凸透镜聚光效果。光罩上的电路结构被缩小并烙印在晶圆上，最后印在晶圆上的半导体迴路会从光罩的1微米，变为0.1微米。光刻制程结束后，工程师会在晶圆上加入离子。透过注入杂质到硅的结构中控制导电性，与一连串的物理过程，制造出电晶体。
4、待晶圆上的电晶体，二极体等电子元件制作完成后，工程师将铜倒入沟槽中，形成精细的接线。将许多电晶体连结起来。导线连接了数亿个电晶体，即可制作成大型集成电路。
1、流片：
像流水线一样通过一系列工艺步骤制造芯片，这就是流片。
在集成电路设计领域，“流片”指的是“试生产”，就是说设计完电路以后，先生产几片几十片，供测试用。如果测试通过，就照着这个样子开始大规模生产了。
2、掩膜：
1.什么是掩膜
首先我们从物理的角度来看看mask到底是什么过程。
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。
2.掩膜的用法
2.1 提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；
2.2 屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；
2.3 结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；
3、多晶圆
2010年1月21日上海集成电路技术与产业促进中心就推出多项目晶圆（Multi-Project Wafer，简称MPW）服务，可以使流片费下降90%-95%。
MPW服务是将多个具有相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片加工服务，每个设计品种可以得到数十片芯片样品，用于产品研发阶段的实验和验证测试。MPW流片费用由所有参加MPW的项目按照芯片所占面积分摊，实际成本仅为原来的5%-10%，不但大幅降低了集成电路研发阶段的成本，也为集成电路设计工程师的大胆实践提供了相对宽松的条件，有效地推动了集成电路设计的创新发展。
硅基材料
硅基半导体材料是以硅材料为基础发展起来的新型材料。包括绝缘层上的硅材料、锗硅材料、多孔硅、微晶硅以及以硅为基底异质外延其他化合物半导体材料等。
EDA软件
EDA（ElectronicDesignAutomation,电子设计自动化）：是指利用计算机软件完成大规模集成电路设计、仿真、验证等流程的设计方式。EDA软件是集成电路领域的上游基础工具，贯穿于集成电路设计、制造、封测等环节，是集成电路产业的战略基础支柱之一。
硅知识产权（IP）
芯片行业中所说的IP，一般也称为IP核。IP核是指芯片中具有独立功能的电路模块的成熟设计。该电路模块设计可以应用在包含该电路模块的其他芯片设计项目中，从而减少设计工作量，缩短设计周期，提高芯片设计的成功率。该电路模块的成熟设计凝聚着设计者的智慧，体现了设计者的知识产权，因此，芯片行业就用IP核(Intellectual Property Core)来表示这种电路模块的成熟设计。IP核也可以理解为芯片设计的中间构件。一般说来，一个复杂的芯片是由芯片设计者自主设计的电路部分和多个外购的IP核连接构成的。
芯片架构
芯片架构是指对芯片对象类别和属性的描述，对于每一个对象类别来说，该架构定义了对象类必须具有的属性，它也可以有附加的属性，并且该对象可以是它的父对象。
架构是个很模糊的词，具体含义跟语境有关。通常提到 SOC 芯片架构时，一般指的是嵌入式处理器核心的类型，当提到 x86 或 arm 架构时，指的是指令集。当探讨芯片设计时，讨论的是电路实现级别的微架构。
CPU 是个解释器，架构是它的算法，RTL 是算法的实现，MuxReg 队列操作是它 emit 的 target。更好架构就是更好的算法，能用更少操作在更紧的 constraint 下做完同样一件事。
目前市场上主流的芯片架构有X86、ARM、RiSC-V和MIPS四种。 X86是微处理器执行的计算机语言指令集，指一个intel通用计算机系列的标准编号缩写，也标识一套通用的计算机指令集合。
光刻机
光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻胶
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。
芯片制程
芯片制程指的是晶体管结构中的栅极的线宽，也就是纳米工艺中的数值，宽度越窄，功耗越低。
一般说的芯片14nm、10nm、7nm、5nm，指的是芯片的制程工艺，也就是处理内CPU和GPU表面晶体管门电路的尺寸。一般来说制程工艺先进，晶体管的体积就越小，那么相同尺寸的芯片表面可以容纳的晶体管数量就越多，性能也就越强。
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