#我们只关注如何搞钱# #帮主约财局#【帮主约财局第42期:跨界光伏胜算几何 】光伏热,股市热炒,然后养猪的、建房的乃至做文化的上市公司跟着跨界光伏。本周三(8月24日)晚19:00,珞石文化“大咖股事会”系列栏目《帮主约财局》第四十二期,主持人@光头帮主,与特约嘉宾一起聊聊企业跨界光伏有多大胜算。帮主有约,不见不散。
作品公开发表,作品名称:7T0341(图一)、7T0343(图二、图三)、7T0344(图四)、7T0345(图五、图六)、7T0347(图七)、7T0350(图八)、7T0351(图九)、C5863(图十)、C5864(图十一)、C5865(图十二、图十三)、C5867(图十四)、C5868(图十五)、D3223(图十六)、D3224(图十七)、D3225(图十八),合作插画师:梁彬华、窦金艳、曹瑜、于广丽,发表时间:2022年8月23日
该系列美术作品为权利人原创,用于生产及销售产品,特此将该作品委托本公司公开发表,如有侵犯著作权的行为,将追究其责任。
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【中微公司:第 2000 个 CCP 刻蚀设备反应台付运】
今日,中微公司宣布,公司的电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 2000 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。
中微公司指出,本批次运付的 CCP 刻蚀设备反应台有 Primo AD-RIE 及 Primo HD-RIE 系列产品。其中,Primo AD-RIE-e 是中微第二代电介质刻蚀产品 Primo AD-RIE 的子产品,将应用于 5 纳米及以下的前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产。
该交付批次的 Primo HD-RIE 则具有六个单反应台腔体的系统,定位于为中高深宽比刻蚀提供综合解决方案。中微公司表示,Primo HD-RIE 在 3D-NAND 及 DRAM 中高深宽比沟槽及深孔刻蚀上表现优异,在一些关键制程上已实现量产。
今日,中微公司宣布,公司的电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 2000 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。
中微公司指出,本批次运付的 CCP 刻蚀设备反应台有 Primo AD-RIE 及 Primo HD-RIE 系列产品。其中,Primo AD-RIE-e 是中微第二代电介质刻蚀产品 Primo AD-RIE 的子产品,将应用于 5 纳米及以下的前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产。
该交付批次的 Primo HD-RIE 则具有六个单反应台腔体的系统,定位于为中高深宽比刻蚀提供综合解决方案。中微公司表示,Primo HD-RIE 在 3D-NAND 及 DRAM 中高深宽比沟槽及深孔刻蚀上表现优异,在一些关键制程上已实现量产。
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