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220727【新闻图】
[OSEN=记者 Ji Hyung-jun] 27日上午，在首尔迪奥圣水快闪店举行了照片墙活动。

演员罗蒙正在拍照。2022.07.27 /jpnews@osen.co.kr

Ji-Joon Ji (jpnews@osen.co.kr)

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【IWAPS】来自Qingdao Germanlitho Co.,Ltd 青岛天仁微纳公司的RAN JI作出了题为《纳米压印在微纳光学器件生产中的工业应用》的报告。纳米压印技术是一种具有纳米精度的结构复制技术。它曾被《麻省理工周刊》(Massachusetts Institute of Technology Weekly)评为“将改变世界的十大新兴技术之一”。传统曝光光刻技术受波长的限制，难以实现纳米级加工。随着芯片的特征尺寸越来越小，电子束直写、深紫外光刻(deep ultraviolet lithography, DUV)、极紫外光刻(extreme ultraviolet lithography, EUV)等技术开始被越来越多的使用。然而，这些技术的设备极其昂贵，电子束直写的处理速度太慢，难以实现量产。正是因为这些技术的设备和工艺成本高，所以在光学和消费电子领域很难被接受。纳米压印就像微纳结构的复印机，是一种可以实现纳米级加工和低成本、高效率批量生产的新兴技术。随着纳米压印技术的逐步成熟，近年来在微纳光学领域的应用越来越多，如衍射光学元件DOE、微透镜阵列、AR波导光栅等。
微纳光学元件的应用领域非常广泛，如3D传感、AR眼镜、屏幕下指纹识别、手机摄像头、高端照明、光谱仪、医疗设备等。在这些应用中，微纳光学元件是核心元件，但长期以来一直被国外垄断，高端产品只能依赖进口。在当前国际形势下，实现这些核心部件的国产化具有重要意义。
经过20多年的发展，纳米压印技术的基础研究已经成熟，在设备、模具、材料、工艺等方面都取得了长足的进展。随着微纳结构在产品中的推广，纳米压印技术的优势和重要性越来越受到人们的重视。GremanLitho公司的纳米压印技术为纳米光刻提供了一个完整的解决方案，精度优于50纳米，12英寸面积的深宽比为10:1，可广泛应用于微纳米结构产品的生产。