TAZA全屋定制系列 | 天然奢石床头柜抽屉内置丝绒布，手感细腻、复古大气，解决收纳的同时也很好的装饰了空间，一举两得。Nel cassetto si regola al flannelette di seta liscio al tocco, ristabilisce il vecchio l'atmosfera, Spazio molto buon della decorazione dell'impiegato risolto di Info allo stesso tempo anche, ucciso due uccelli con una pietra.黄古铜的优雅弧度，以简约柔美之态展现着现代个性，让空间更显精致，展现出别致的美感。Radiante grazioso dei bronzi antichi gialli, del riassunto da individualità moderna di sviluppo bello di stato delicatamente, Lasci lo spazio rivelare benissimo, spiega il senso estetico unico.
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今天我们来讲讲硬质涂层对溅射靶材的技术要求。主要体现在这几点，对靶材的纯度、内部组织结构、物理及力学性能和外观尺寸的要求。
Vol.1/ 纯度
靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大。靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性越好,性能越高。影响靶材纯度的最主要因素是杂质含量,杂质的来源广泛,包括熔炼铸造过程中的夹杂物和粉末原料中的氧气和水等。靶材作为溅射中的阴极，固体中的杂质和气孔中的O2和H2O在沉积过程中容易在薄膜表面形成熔滴和孔洞。
Vol.2/ 致密度
靶材的致密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响着溅射薄膜的物理和力学性能。靶材致密度越高,溅射膜粒子的密度越低,放电现象越弱,薄膜的性能也越好;致密度低的靶材在溅射过程中,存在于靶材孔隙中的气体突然释放,造成大尺寸的材料颗粒或微粒飞溅,或在成膜之后薄膜受到二次电子的轰击产生微粒,这些微粒的出现将严重影响涂层质量。
Vol.3/ 成分与结构均匀性
成分与结构均匀性是考察靶材质量的重要指标之一。对于复相结构的合金靶材和混合靶材,不仅要求成分的均匀性,还要求组织结构的均匀性。只有靶材的成分和结构均匀,在后期镀膜过程中才能均匀地溅射在基体上;如果均匀性不好,沉积出来的薄膜均匀性也会受到影响,容易出现孔洞、间隙、凸起等缺陷。
Vol.4/ 晶粒尺寸和取向
靶材的晶粒尺寸越细小,沉积的薄膜厚度分布越均匀,溅射速率越快。在靶材的溅射沉积镀膜过程中发现，合金靶材具有择优溅射现象,这严重影响到薄膜的化学组成,因此控制合金靶材中的晶粒取向显得尤为重要。
Vol.5/ 几何形状与尺寸
主要体现在加工精度和质量方面。加工精度如表面粗糙度和平整度等。质量方面需要检查靶材表面有无开裂、缩孔和难熔不熔物等。靶材对表面质量的控制极为严格,表面质量缺陷对后续的溅射镀膜均匀性影响很大。
Vol.6/ 性能要求
主要是对溅射靶材的热导率、电导率和热膨胀系数的要求。因溅射导致靶材的温度升高,热导率越高热量传递的越快,靶材离子的蒸发效果越好,沉积效率越高;靶材与基材的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小热应力的影响。
常用几种靶材的硬质涂层技术要求
1⃣️钛靶材（Ti），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99.9%，制备工艺熔炼铸造法
2⃣️铬靶材（Cr），纯度99.5%、晶粒度＜150μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
3⃣️钛铝靶材（Ti-50Al），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
4⃣️铬铝靶材（Cr-70Al），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
5⃣️钛铝硅靶材（Ti-60Al-10Si），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
6⃣️铬铝硅靶材（Cr-60Al-10Si），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
7⃣️碳化钨(WC)，纯度99.9%、晶粒度1μm，致密度＞99%，制备工艺烧结生产#干货##科研#
Vol.1/ 纯度
靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大。靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性越好,性能越高。影响靶材纯度的最主要因素是杂质含量,杂质的来源广泛,包括熔炼铸造过程中的夹杂物和粉末原料中的氧气和水等。靶材作为溅射中的阴极，固体中的杂质和气孔中的O2和H2O在沉积过程中容易在薄膜表面形成熔滴和孔洞。
Vol.2/ 致密度
靶材的致密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等,还影响着溅射薄膜的物理和力学性能。靶材致密度越高,溅射膜粒子的密度越低,放电现象越弱,薄膜的性能也越好;致密度低的靶材在溅射过程中,存在于靶材孔隙中的气体突然释放,造成大尺寸的材料颗粒或微粒飞溅,或在成膜之后薄膜受到二次电子的轰击产生微粒,这些微粒的出现将严重影响涂层质量。
Vol.3/ 成分与结构均匀性
成分与结构均匀性是考察靶材质量的重要指标之一。对于复相结构的合金靶材和混合靶材,不仅要求成分的均匀性,还要求组织结构的均匀性。只有靶材的成分和结构均匀,在后期镀膜过程中才能均匀地溅射在基体上;如果均匀性不好,沉积出来的薄膜均匀性也会受到影响,容易出现孔洞、间隙、凸起等缺陷。
Vol.4/ 晶粒尺寸和取向
靶材的晶粒尺寸越细小,沉积的薄膜厚度分布越均匀,溅射速率越快。在靶材的溅射沉积镀膜过程中发现，合金靶材具有择优溅射现象,这严重影响到薄膜的化学组成,因此控制合金靶材中的晶粒取向显得尤为重要。
Vol.5/ 几何形状与尺寸
主要体现在加工精度和质量方面。加工精度如表面粗糙度和平整度等。质量方面需要检查靶材表面有无开裂、缩孔和难熔不熔物等。靶材对表面质量的控制极为严格,表面质量缺陷对后续的溅射镀膜均匀性影响很大。
Vol.6/ 性能要求
主要是对溅射靶材的热导率、电导率和热膨胀系数的要求。因溅射导致靶材的温度升高,热导率越高热量传递的越快,靶材离子的蒸发效果越好,沉积效率越高;靶材与基材的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小热应力的影响。
常用几种靶材的硬质涂层技术要求
1⃣️钛靶材（Ti），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99.9%，制备工艺熔炼铸造法
2⃣️铬靶材（Cr），纯度99.5%、晶粒度＜150μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
3⃣️钛铝靶材（Ti-50Al），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
4⃣️铬铝靶材（Cr-70Al），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
5⃣️钛铝硅靶材（Ti-60Al-10Si），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
6⃣️铬铝硅靶材（Cr-60Al-10Si），纯度99.8%、晶粒度＜100μm，致密度＞99%，制备工艺粉末冶金法
7⃣️碳化钨(WC)，纯度99.9%、晶粒度1μm，致密度＞99%，制备工艺烧结生产#干货##科研#
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