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这些刻画着可爱表情、保留着质朴造型的陶瓷雕塑由瑞典陶艺家 Lisa Larson 设计,然后在她自己创立的工作室生产。工匠们按照 Lisa Larson 的原型倒模,将陶制原料填充在模具内,等形状凝固后再除去模具进行上色,经过表面反复雕刻打磨后入窑烧制。
这些刻画着可爱表情、保留着质朴造型的陶瓷雕塑由瑞典陶艺家 Lisa Larson 设计,然后在她自己创立的工作室生产。工匠们按照 Lisa Larson 的原型倒模,将陶制原料填充在模具内,等形状凝固后再除去模具进行上色,经过表面反复雕刻打磨后入窑烧制。
牙周病的形成
当你发生刷牙会出血,牙龈肿大、口臭、牙龈萎缩、牙齿对刺激的食物过敏等现象时,常因不会疼痛而忽略就诊。口腔卫生不良是造成牙周病的最大因素,牙周组织的破坏起因于牙齿及牙龈表面形成细菌薄膜—牙菌斑。如果牙菌斑不除去,会在口中逐渐钙化,牙结石破坏牙龈,新的牙菌斑很快地在粗糙的牙结石上再形成,引起牙龈发炎,发炎现象会向牙周深层组织蔓延,最终在牙根表面形成结石,若不治疗,齿槽骨逐渐吸收,牙齿会松动,最后脱落。
当你发生刷牙会出血,牙龈肿大、口臭、牙龈萎缩、牙齿对刺激的食物过敏等现象时,常因不会疼痛而忽略就诊。口腔卫生不良是造成牙周病的最大因素,牙周组织的破坏起因于牙齿及牙龈表面形成细菌薄膜—牙菌斑。如果牙菌斑不除去,会在口中逐渐钙化,牙结石破坏牙龈,新的牙菌斑很快地在粗糙的牙结石上再形成,引起牙龈发炎,发炎现象会向牙周深层组织蔓延,最终在牙根表面形成结石,若不治疗,齿槽骨逐渐吸收,牙齿会松动,最后脱落。
气相二氧化硅与CMP化学机械抛光不能说的秘密(一)
CMP是由化学和机械作用协同进行的平坦化过程,优先除去表面上的凹凸部位,使之成为高低落差一致的表面,可以有效地获得超光滑表面,其抛光工艺已在微纳米量级,是一种成熟的加工工艺。
下图为CMP工作示意图:首先将待抛光材料固定在载样盘上,并且安装抛光垫。抛光盘和待抛光材料均以其自身的对称轴旋转。另外,将抛光液运送到抛光垫上面。通过抛光液和待抛光材料之间的化学反应、磨粒和待抛光材料之间的机械作用,使得材料去除并获得表面全局平坦化。
CMP仪器主要通过抛光盘、抛光垫、抛光液等组成。其中,抛光垫与抛光液占据绝对主要因素。
1.抛光垫
在CMP中,抛光垫是一种重要的损耗品,一般情况下,该垫是拥有适当机械性质和多孔吸水性质的材料。它是储存、输送抛光液的关键部件,在一定程度上对工件进行机械研磨,并起到运输抛光残渣的作用。
CMP是由化学和机械作用协同进行的平坦化过程,优先除去表面上的凹凸部位,使之成为高低落差一致的表面,可以有效地获得超光滑表面,其抛光工艺已在微纳米量级,是一种成熟的加工工艺。
下图为CMP工作示意图:首先将待抛光材料固定在载样盘上,并且安装抛光垫。抛光盘和待抛光材料均以其自身的对称轴旋转。另外,将抛光液运送到抛光垫上面。通过抛光液和待抛光材料之间的化学反应、磨粒和待抛光材料之间的机械作用,使得材料去除并获得表面全局平坦化。
CMP仪器主要通过抛光盘、抛光垫、抛光液等组成。其中,抛光垫与抛光液占据绝对主要因素。
1.抛光垫
在CMP中,抛光垫是一种重要的损耗品,一般情况下,该垫是拥有适当机械性质和多孔吸水性质的材料。它是储存、输送抛光液的关键部件,在一定程度上对工件进行机械研磨,并起到运输抛光残渣的作用。
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