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MAJORS [ Giddy Up ]

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【中国科学家开创新型晶圆制作工艺，6英寸硅晶片集成100个光学探测仪，有望在特殊传感器领域替代现有半导体工艺】

“通过无化学粘合层纳米转移印刷工艺做出的 6 英寸晶片，与光刻工艺做出来的几乎无差别。并且，该技术还具有低价、均匀、精密等优势，在某些应用场景，未来将有可能代替现有的半导体工艺。”西南交通大学智慧城市与智能交通学院副教授赵志俊表示。

上文提及的新型纳米转印技术（CF-NTP，Chemical-free Nanotransfer Printing），是一种基于纳米级低熔点效应的直接化学吸附辅助纳米转印技术，可应对从几十纳米到 6 英寸尺寸范围晶圆的二维或三维纳米结构。

该技术系首次在无溶剂、无粘合层的条件下实现纳米结构转印，并可在 3 分钟完成纳米结构的完全转移，生产良率达 99%。

1 月 3 日，相关论文以《具有晶圆级均匀性和可控性的直接化学吸附辅助纳米转移印刷》（Direct Chemisorption-Assisted Nanotransfer Printing with Wafer-Scale Uniformity and Controllability）为题发表在 ACS Nano 上[1]。

审稿人对该技术评价道：“作者展示了一种非常简单，但非常有效的纳米级转移印刷方法，有望在未来产生巨大影响。具有高度均匀产量/性能的大面积阵列的演示，是新转移印刷方法能力的有力证明。这种方法的未来应用是不可想象的。”

该技术由新加坡南洋理工大学（Nanyang Technological University，NTU）联合韩国机械与材料研究所（Korea Institute of Machinery and Materials，KIMM）团队共同研发，并已申请相关专利。

该论文共同第一作者为西南交通大学智慧城市与智能交通学院副教授赵志俊（原 KIMM 博士后研究员）、NTU 电器与电子工程学院博士后研究员申常浩 ，共同通讯作者为 NTU 电器与电子工程学院助理教授金文浩、KIMM 纳米融合机械系统研究部教授郑俊浩。

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