【南方科技大学发表有机半导体n-型掺杂研究新进展】南方科技大学材料科学与工程系教授郭旭岗课题组在有机半导体n-型掺杂研究中取得突破性进展，发现了高效的催化掺杂方法，相关成果以“Transition metal catalysed molecular n-doping of organic semiconductors”为题发表在国际顶尖学术期刊《自然》（Nature）上。在本研究中，研究团队报道了一种具有普适性的、基于过渡金属催化的高效有机半导体n-型掺杂技术。该团队将催化掺杂方法应用在n-型有机热电器件、n-型有机薄膜晶体管和钙钛矿太阳能电池中，实现了器件性能的显著提升。 #南方科技大学[超话]#
显影液检测
显影液是一种重要的湿电子化学品，也是半导体、显示面板、太阳能电池制作过程中关键的原材料之一。显影液质量的优劣，直接影响电子产品的质量，电子行业对显影液的一般要求是超净和高纯。半导体、显示面板、太阳能电池等行业发展速度快，属于国家大力发展的战略新兴行业。显影液的市场需求会随着这些行业的快速发展而不断增长。
一、显影液的分类
㈠、光刻中所用的显影液
光刻中所用的显影液：是溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域的一种化学溶剂。对于负显影工艺，显影液通常是一种有机溶剂，如二甲苯 。对于正显影工艺，显影液是一种用水稀释的强碱溶液，早期的是氢氧化钾与水的混合物，但这两种都包含了可动离子玷污(MIC)。最普通的是四甲基氢氧化铵(TMAH)。
正胶显影液：工艺中主要用的显影液是四甲基氢氧化铵(NTD显影液是乙酸正丁酯) 。
TMAH水溶液的主要成分是水，占99%以上。它被广泛用于光刻工艺中的显影。不管是I-线、248nm、193nm、193nm浸没式或是EUV，都是使用TMAH水溶液做显影液。有时为了避免光刻胶线条的倒塌，还可以在TMAH水溶液中添加很少量的表面活化剂。一般来说，一个Fab生产线只使用一种显影液，显影液通过管道输送到每一个匀胶显影设备，又叫做厂务集中供应。
随着光刻线宽和均匀性的要求越来越高，光刻界也试图改变现有的TMAH显影液。光刻胶在显影液中的溶解行为与光刻胶的灵敏度以及最终图形的边缘粗糙度都有关联。
㈡、摄影中所用的显影液
摄影中所用的显影液：指的是洗相片时适用的化学药剂，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等。有毒，不可直接接触肌肤，会严重腐蚀。
①显影液用途
银盐胶片显影用的药液称显影液。用于黑白胶片显影的显影液称黑白显影液，用于彩色胶片显影的称彩色显影液。
②显影原理
显影是指感光材料曝光产生潜影之后，在显影液中进行一段时间处理，产生可见银影像的过程。显影过程是一个氧化还原反应，反应的实质是使银离子还原为黑色的金属银。反应中的还原剂就是显影液中的显影剂。显影作用一般都是在曝光的卤化银微晶上进行。这是由于曝光的卤化银晶体上形成了显影中心，显影中心在显影的化学反应中是一个催化剂。因此，显影过程总是从显影中心开始，直到这个卤化银晶体中的银离子全部被还原为止。
显影液的浓度是指显影剂的相对含量，即NaOH、Na2SiO3总含量。市场上销售的显影液多是浓缩型液体，使用时需要按比例稀释，显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。在其他条件不变的前提下，显影速度与显影液浓度成正比关系，即显影液浓度越大，显影速度越快。 显影液浓度大，还易有结晶析出。 当显影液的浓度偏低时，碱性弱，显影速度慢，易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。
③显影液的成分
显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能，通常还加一些其他成分，诸如促进显影的促进剂，防止显影剂氧化的保护剂，防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。
通过对各组分不同用量的调配可以得到不同性能的显影液，如微粒显影液、高反差显影液等。
工业上说的显影剂，是针对半导体晶片而言。系列有显影剂、光刻胶等。
1、显影剂
显影剂是显影液中必不可少的成分，其作用是使已曝光的卤化银还原产生金属银。在显影的化学反应中，显影剂是还原剂，卤化银的氧化剂。
2、促进剂
显影剂溶解于水所配制的“显影液”，它没有其它物质存在时显影速度极其缓慢，当在该溶液中加入碱性物质后，显影速度则明显加快。
a.硼酸盐 ：常用的硼酸盐为硼砂和硼酸钠。是一种弱促进剂，仅用于微粒显影液配方。
b.碳酸盐 ：常用的碳酸盐是碳酸钠、碳酸钾等。呈强碱性，因而多用于高反差显影液。
3、保护剂
显影液在保存过程中与空气接触，显影剂很容易被氧化，造成无谓的消耗，显影剂的浓度减小，导致显影能力下降。为此常加一些如：亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、焦亚硫酸钠等保护剂，其中常用的是亚硫酸钠。
4、抑制剂
抑制剂又称防灰雾剂，在显影液中可以抑制灰雾的产生。常用的抑制剂有溴化钾、溴化钠等。
二、显影液检测项目
配方检测，浓度检测，碳酸钠含量检测，主要成分检测，电导率检测等。
三、显影液检测标准
GB/T 37403-2019薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)用四甲基氢氧化铵显影液
SJ/T 11508-2015集成电路用正胶显影液
SJ/T 11511-2015液晶显示器用 正胶显影液
SJ/T 11634-2016电子工业用显影液中甲醇的测定
SJ/T 11635-2016电子工业用显影液中碳酸根离子的测定
SJ/T 11636-2016电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定
显影液是一种重要的湿电子化学品，也是半导体、显示面板、太阳能电池制作过程中关键的原材料之一。显影液质量的优劣，直接影响电子产品的质量，电子行业对显影液的一般要求是超净和高纯。半导体、显示面板、太阳能电池等行业发展速度快，属于国家大力发展的战略新兴行业。显影液的市场需求会随着这些行业的快速发展而不断增长。
一、显影液的分类
㈠、光刻中所用的显影液
光刻中所用的显影液：是溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域的一种化学溶剂。对于负显影工艺，显影液通常是一种有机溶剂，如二甲苯 。对于正显影工艺，显影液是一种用水稀释的强碱溶液，早期的是氢氧化钾与水的混合物，但这两种都包含了可动离子玷污(MIC)。最普通的是四甲基氢氧化铵(TMAH)。
正胶显影液：工艺中主要用的显影液是四甲基氢氧化铵(NTD显影液是乙酸正丁酯) 。
TMAH水溶液的主要成分是水，占99%以上。它被广泛用于光刻工艺中的显影。不管是I-线、248nm、193nm、193nm浸没式或是EUV，都是使用TMAH水溶液做显影液。有时为了避免光刻胶线条的倒塌，还可以在TMAH水溶液中添加很少量的表面活化剂。一般来说，一个Fab生产线只使用一种显影液，显影液通过管道输送到每一个匀胶显影设备，又叫做厂务集中供应。
随着光刻线宽和均匀性的要求越来越高，光刻界也试图改变现有的TMAH显影液。光刻胶在显影液中的溶解行为与光刻胶的灵敏度以及最终图形的边缘粗糙度都有关联。
㈡、摄影中所用的显影液
摄影中所用的显影液：指的是洗相片时适用的化学药剂，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等。有毒，不可直接接触肌肤，会严重腐蚀。
①显影液用途
银盐胶片显影用的药液称显影液。用于黑白胶片显影的显影液称黑白显影液，用于彩色胶片显影的称彩色显影液。
②显影原理
显影是指感光材料曝光产生潜影之后，在显影液中进行一段时间处理，产生可见银影像的过程。显影过程是一个氧化还原反应，反应的实质是使银离子还原为黑色的金属银。反应中的还原剂就是显影液中的显影剂。显影作用一般都是在曝光的卤化银微晶上进行。这是由于曝光的卤化银晶体上形成了显影中心，显影中心在显影的化学反应中是一个催化剂。因此，显影过程总是从显影中心开始，直到这个卤化银晶体中的银离子全部被还原为止。
显影液的浓度是指显影剂的相对含量，即NaOH、Na2SiO3总含量。市场上销售的显影液多是浓缩型液体，使用时需要按比例稀释，显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。在其他条件不变的前提下，显影速度与显影液浓度成正比关系，即显影液浓度越大，显影速度越快。 显影液浓度大，还易有结晶析出。 当显影液的浓度偏低时，碱性弱，显影速度慢，易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。
③显影液的成分
显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能，通常还加一些其他成分，诸如促进显影的促进剂，防止显影剂氧化的保护剂，防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。
通过对各组分不同用量的调配可以得到不同性能的显影液，如微粒显影液、高反差显影液等。
工业上说的显影剂，是针对半导体晶片而言。系列有显影剂、光刻胶等。
1、显影剂
显影剂是显影液中必不可少的成分，其作用是使已曝光的卤化银还原产生金属银。在显影的化学反应中，显影剂是还原剂，卤化银的氧化剂。
2、促进剂
显影剂溶解于水所配制的“显影液”，它没有其它物质存在时显影速度极其缓慢，当在该溶液中加入碱性物质后，显影速度则明显加快。
a.硼酸盐 ：常用的硼酸盐为硼砂和硼酸钠。是一种弱促进剂，仅用于微粒显影液配方。
b.碳酸盐 ：常用的碳酸盐是碳酸钠、碳酸钾等。呈强碱性，因而多用于高反差显影液。
3、保护剂
显影液在保存过程中与空气接触，显影剂很容易被氧化，造成无谓的消耗，显影剂的浓度减小，导致显影能力下降。为此常加一些如：亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、焦亚硫酸钠等保护剂，其中常用的是亚硫酸钠。
4、抑制剂
抑制剂又称防灰雾剂，在显影液中可以抑制灰雾的产生。常用的抑制剂有溴化钾、溴化钠等。
二、显影液检测项目
配方检测，浓度检测，碳酸钠含量检测，主要成分检测，电导率检测等。
三、显影液检测标准
GB/T 37403-2019薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)用四甲基氢氧化铵显影液
SJ/T 11508-2015集成电路用正胶显影液
SJ/T 11511-2015液晶显示器用 正胶显影液
SJ/T 11634-2016电子工业用显影液中甲醇的测定
SJ/T 11635-2016电子工业用显影液中碳酸根离子的测定
SJ/T 11636-2016电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定
SepaBeanTM machine快速制备色谱系统在有机光电材料领域的应用//有机光电材料是一类具有光电活性的有机材料，广泛应用于有机发光二极管（如图1所示）、有机晶体管、有机太阳能电池、有机存储器等领域。有机光电材料通常是富含碳原子、具有大π共轭体系的有机分子，分为小分子和聚合物两类。与无机材料
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