真空气氛管式炉额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
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双温区管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。
双温区管式炉性能特点：
1.炉型结构简单，操作容易，便于控制，能连续生产。
2.乙烯，丙烯收率较高，产物浓度高。
3.动力消耗少，热效率高。
4.裂解气和烟道气的大部分可以设法回收。
5.原料的适用范围随着裂解技术的进步而日渐扩大。
6.可以多炉组合而大型生产。
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3.动力消耗少，热效率高。
4.裂解气和烟道气的大部分可以设法回收。
5.原料的适用范围随着裂解技术的进步而日渐扩大。
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真空气氛管式炉额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
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