【IWAPS】来自Fudan University的Yanli Li作出了题为《高数值孔径（HiNA）极紫外（EUV）曝光工具给光刻工艺带来的优势》的报告。自从0.33NA极紫外光(EUV)曝光工具引入7/5 nm工艺以来，摩尔定律继续拓展到了更小的尺寸。然而，由于光子吸收的随机性，线/间隔（line/space）的最佳间距为36~40 nm，接触孔和通孔的最佳间距为48~50 nm。在上述尺寸以下，若要保持相同的缺陷密度水平，就需要增加曝光能量或改善材料粗糙度。使用较高的数值孔径（NA）可以提高成像对比度，或者改善在较小间距处的曝光宽裕度(EL)，从而提高光刻分辨率。此外，高NA曝光工具的使用可以改善水平-垂直(H-V)线宽偏差，并通过间距变化改变焦距。然而，所能达到的最小间距在很大程度上取决于光子吸收的分布。我们将使用我们自主开发的EUV随机模型来探究HiNA曝光工具能否提高对随机结果的探测能力，并提出相同缺陷密度下最小间距的缩减量。

【票房周报】#名侦探柯南# #绯色的子弹# <日本>第十三周观影人次出榜
■截至第十三周（4/16-7/11），M24累计动员524.8515万人次（YOY 73.67%），票房收入累计73.47亿日元（YOY 80.71%），位列历代榜第85名；
■M24第十三周（7/5-7/11）票房收入增量0.7658亿日元（先年比341.83%，前年比108.50%），增量先周比79.97%；
■M24第十三周周末动员人次及周间动员人次出榜（掉出前十名）。

注：
1. M23第十三周结束时动员712.40万人次，票房收入91.03亿日元（YOY 106.77%）；
2. M23第十周时出榜，M22第十六周时出榜，M24这是取了个平均……
3. YOY/先年比指与M23同期的对比，前年比指与M22同期的对比。

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